用于X射线源剂量率监控的穿透电离室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN02289766.6

申请日：

2002-12-16

公开(公告)号：

CN2591644Y

公开(公告)日：

2003-12-10

发明(设计)人：

李元景缪庆文张清军高文焕代主得郭红云

申请人：

申请人地址：

100083北京市北京清华同方科技广场A座2907

IPC主分类号：

G01T1185

IPC分类号：

G01N2304

代理机构：

代理人：

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-12-10	授权	授权
2005-10-12	其他有关事项避免重复授权放弃专利权	其他有关事项避免重复授权放弃专利权放弃生效日:20050921

共 50 条

[1]

一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

郭红云 .

中国专利 :CN1220069C ,2004-06-30

[2]

用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

李树伟 .

中国专利 :CN2736785Y ,2005-10-26

[3]

一种用于X射线源剂量率监控的小尺寸穿透电离室 [P].

李元景 ;

缪庆文 ;

张清军 ;

高文焕 ;

代主得 ;

李树伟 .

中国专利 :CN1749778A ,2006-03-22

[4]

一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置 [P].

邬海峰 .

中国专利 :CN203492259U ,2014-03-19

[5]

用于保护X射线源的方法以及X射线源 [P].

汤米·图希玛 ;

波尔·塔克曼 ;

丹尼尔·拉尔森 .

中国专利 :CN111713182A ,2020-09-25

[6]

用于夹持电离室的夹具 [P].

李爱民 ;

安淑女 ;

吴虎城 .

中国专利 :CN204525257U ,2015-08-05

[7]

用于生成X射线辐射的X射线源装置 [P].

O·沃伊沃德 ;

D·巴尔特 ;

A·根西奥 ;

J·韦伯 .

中国专利 :CN110199575A ,2019-09-03

[8]

测量不同材料界面剂量分布的多层平板电离室 [P].

郭红霞 ;

吴国荣 ;

韩福斌 ;

陈雨生 ;

周辉 .

中国专利 :CN1450363A ,2003-10-22

[9]

用于测量辐射的X射线源 [P].

R·K·O·贝林 .

中国专利 :CN101689464A ,2010-03-31

[10]

用于控制X射线源的方法 [P].

波尔·塔克曼 ;

乌尔夫·伦德斯托姆 .

中国专利 :CN112205081A ,2021-01-08

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