一种等离子体真空镀膜室

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202120090899.6

申请日：

2021-01-14

公开(公告)号：

CN214458315U

公开(公告)日：

2021-10-22

发明(设计)人：

渠艳良李雷

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号4幢408室

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

C23C16455 C23C16458

代理机构：

苏州创策知识产权代理有限公司 32322

代理人：

范圆圆

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-22	授权	授权

共 50 条

[1]

一种立式真空镀膜室 [P].

渠艳良 ;

李雷 .

中国专利 :CN213232468U ,2021-05-18

[2]

微波脉冲等离子体真空镀膜装置 [P].

高忠义 .

中国专利 :CN204298452U ,2015-04-29

[3]

一种等离子真空镀膜室 [P].

李灿民 ;

陶满 ;

陶圣全 .

中国专利 :CN202755057U ,2013-02-27

[4]

真空镀膜等离子体磁过滤磁偏转装置 [P].

魏浩 ;

魏荡 .

中国专利 :CN309358887S ,2025-06-27

[5]

一种等离子体真空镀膜覆膜机及其使用方法 [P].

渠艳良 ;

李雷 .

中国专利 :CN114311628A ,2022-04-12

[6]

真空等离子体镀膜设备（4） [P].

何培忠 .

中国专利 :CN305516419S ,2019-12-27

[7]

真空等离子体镀膜设备（5） [P].

何培忠 .

中国专利 :CN305473056S ,2019-12-03

[8]

大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备 [P].

曹新民 ;

陈晨 ;

周剑 ;

王登志 ;

田罡煜 ;

张斌 ;

房现飞 ;

王青松 ;

王凤明 .

中国专利 :CN117403213A ,2024-01-16

[9]

大面积等离子体放电结构及真空镀膜设备 [P].

曹新民 ;

陈晨 ;

周剑 ;

王登志 ;

田罡煜 ;

张斌 ;

房现飞 ;

王青松 ;

王凤明 .

中国专利 :CN221720927U ,2024-09-17

[10]

双蒸发源与等离子体镀膜源结合的新型真空镀膜设备 [P].

朱刚劲 ;

朱刚毅 .

中国专利 :CN114875368A ,2022-08-09

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