抗蚀化合物和辐射敏感组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480026859.4

申请日：

2004-08-30

公开(公告)号：

CN1853141A

公开(公告)日：

2006-10-25

发明(设计)人：

小黑大越后雅敏

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

C07D30912 C07D31182 C07D31196 C07C4323 C07C6996 H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

龙传红

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-02-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2006-10-25	公开	公开

共 50 条

[1]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

山川雅子 .

中国专利 :CN103958455A ,2014-07-30

[2]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

林宏美 .

中国专利 :CN102753509A ,2012-10-24

[3]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

林宏美 .

中国专利 :CN102597034A ,2012-07-18

[4]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

林宏美 .

中国专利 :CN102498104A ,2012-06-13

[5]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 ;

山川雅子 .

中国专利 :CN103946204B ,2014-07-23

[6]

环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

林宏美 ;

越后雅敏 ;

小黑大 .

中国专利 :CN102596874A ,2012-07-18

[7]

化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物 [P].

增山达郎 ;

畑光宏 .

中国专利 :CN101993395A ,2011-03-30

[8]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

三井亮 ;

藤原敬之 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN107793337A ,2018-03-13

[9]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

藤原敬之 ;

三井亮 ;

大桥正树 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 .

中国专利 :CN109422672A ,2019-03-05

[10]

化合物、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN103052670A ,2013-04-17

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