锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710771096.5
申请日
2017-08-31
公开(公告)号
CN107793337A
公开(公告)日
2018-03-13
发明(设计)人
三井亮 藤原敬之 谷口良辅 长谷川幸士 大桥正树
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C07C38112
IPC分类号
C07D32708 C07D33376 C07D33908 G03F7004
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
何杨
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P]. 
藤原敬之 ;
三井亮 ;
大桥正树 ;
谷口良辅 ;
长谷川幸士 .
中国专利 :CN109422672A ,2019-03-05
[2]
锍盐化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P]. 
万海星 ;
李兆明 ;
苏敏光 ;
汤舒嵋 .
中国专利 :CN120554265A ,2025-08-29
[3]
锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
井上直也 ;
大桥正树 ;
土门大将 ;
增永惠一 ;
小竹正晃 .
中国专利 :CN110878038B ,2020-03-13
[4]
锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P]. 
大桥正树 ;
藤原敬之 ;
谷口良辅 ;
本田和也 ;
铃木贵大 .
中国专利 :CN107935899B ,2018-04-20
[5]
锍化合物、正型抗蚀剂组合物和图案形成方法 [P]. 
夏元玲 ;
杨靖 .
中国专利 :CN119330864A ,2025-01-21
[6]
锍化合物、光致产酸剂及抗蚀剂组合物 [P]. 
吴贞薰 ;
尹队卿 ;
赵承德 ;
朴素晶 .
中国专利 :CN102911094A ,2013-02-06
[7]
锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P]. 
藤原敬之 ;
大桥正树 ;
谷口良辅 .
中国专利 :CN107870519A ,2018-04-03
[8]
抗蚀剂组合物和图案化方法 [P]. 
山田健司 ;
渡边聪 .
中国专利 :CN106094450B ,2016-11-09
[9]
抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、化合物以及产酸剂 [P]. 
濑下武广 ;
内海义之 ;
川上晃也 ;
羽田英夫 ;
清水宏明 ;
中村刚 .
中国专利 :CN102344437B ,2012-02-08
[10]
抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、产酸剂成分以及化合物 [P]. 
长峰高志 ;
远藤浩太朗 ;
生川智启 .
中国专利 :CN106980232A ,2017-07-25