锍化合物、正型抗蚀剂组合物和图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310901194.1

申请日：

2023-07-21

公开(公告)号：

CN119330864A

公开(公告)日：

2025-01-21

发明(设计)人：

夏元玲杨靖

申请人：

湖北鼎龙控股股份有限公司湖北鼎龙芯盛科技有限公司

申请人地址：

430057 湖北省武汉市武汉市经济技术开发区东荆河路1号

IPC主分类号：

C07C381/12

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/30 G03F7/004

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07C 381/12申请日:20230721
2025-01-21	公开	公开

共 50 条

[1]

锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P].

井上直也 ;

大桥正树 ;

土门大将 ;

增永惠一 ;

小竹正晃 .

中国专利 :CN110878038B ,2020-03-13

[2]

锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

藤原敬之 ;

谷口良辅 ;

本田和也 ;

铃木贵大 .

中国专利 :CN107935899B ,2018-04-20

[3]

锍盐化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

万海星 ;

李兆明 ;

苏敏光 ;

汤舒嵋 .

中国专利 :CN120554265A ,2025-08-29

[4]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

三井亮 ;

藤原敬之 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN107793337A ,2018-03-13

[5]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

藤原敬之 ;

三井亮 ;

大桥正树 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 .

中国专利 :CN109422672A ,2019-03-05

[6]

正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法 [P].

染谷和也 ;

山口敏弘 ;

青木知三郎 .

中国专利 :CN102650830B ,2012-08-29

[7]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

广崎贵子 ;

盐野大寿 ;

平山拓 .

中国专利 :CN101176041A ,2008-05-07

[8]

新型锍化合物及其制造方法、抗蚀剂组合物、以及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

谷口良辅 .

中国专利 :CN107365266A ,2017-11-21

[9]

锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

大桥正树 ;

片山和弘 ;

计良祐纪 .

中国专利 :CN111793054A ,2020-10-20

[10]

化学增幅型正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P].

小竹正晃 ;

增永惠一 ;

渡边聪 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN108255019A ,2018-07-06

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