锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710945782.X

申请日：

2017-10-12

公开(公告)号：

CN107935899B

公开(公告)日：

2018-04-20

发明(设计)人：

大桥正树藤原敬之谷口良辅本田和也铃木贵大

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C07C38112

IPC分类号：

G03F7004 G03F720

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

李英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C07C 381/12 申请日:20171012
2018-04-20	公开	公开
2019-11-12	授权	授权

共 50 条

[1]

锍盐化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

万海星 ;

李兆明 ;

苏敏光 ;

汤舒嵋 .

中国专利 :CN120554265A ,2025-08-29

[2]

锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法 [P].

井上直也 ;

大桥正树 ;

土门大将 ;

增永惠一 ;

小竹正晃 .

中国专利 :CN110878038B ,2020-03-13

[3]

锍化合物、正型抗蚀剂组合物和图案形成方法 [P].

夏元玲 ;

杨靖 .

中国专利 :CN119330864A ,2025-01-21

[4]

新型锍化合物及其制造方法、抗蚀剂组合物、以及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

谷口良辅 .

中国专利 :CN107365266A ,2017-11-21

[5]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

三井亮 ;

藤原敬之 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 ;

大桥正树 .

中国专利 :CN107793337A ,2018-03-13

[6]

锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法 [P].

藤原敬之 ;

三井亮 ;

大桥正树 ;

谷口良辅 ;

长谷川幸士 .

中国专利 :CN109422672A ,2019-03-05

[7]

锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

大桥正树 ;

片山和弘 ;

计良祐纪 .

中国专利 :CN111793054A ,2020-10-20

[8]

锍盐、抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

三井亮 ;

片山和弘 .

中国专利 :CN108623506B ,2018-10-09

[9]

环氧化合物、抗蚀剂组合物、及图案形成方法 [P].

提箸正义 ;

谷口良辅 ;

渡边武 ;

松井良宪 .

中国专利 :CN111662249A ,2020-09-15

[10]

化合物、抗蚀剂组合物及使用其的抗蚀图案形成方法 [P].

樋田匠 ;

越后雅敏 ;

佐藤隆 ;

清水洋子 .

中国专利 :CN107533291A ,2018-01-02

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