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高电迁徒阻力的多层金属化结构及其设计方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN95105950.5
申请日
:
1995-06-15
公开(公告)号
:
CN1138217A
公开(公告)日
:
1996-12-18
发明(设计)人
:
张炜
李志国
程尧海
李学信
孙英华
申请人
:
申请人地址
:
100022北京市朝阳区平乐园100号北京工业大学科研处
IPC主分类号
:
H01L2943
IPC分类号
:
代理机构
:
北京工业大学专利代理事务所
代理人
:
楼艮基;张慧
法律状态
:
实质审查请求的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1995-12-20
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
2000-03-08
专利申请的驳回
专利申请的驳回
1996-12-18
公开
公开
共 27 条
[1]
芯片背面多层金属化结构
[P].
王新潮
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王新潮
;
冯东明
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冯东明
;
叶新民
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叶新民
;
王文源
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王文源
;
江浩
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江浩
.
中国专利
:CN201638807U
,2010-11-17
[2]
芯片背面复合材料多层金属化结构
[P].
王新潮
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王新潮
;
冯东明
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冯东明
;
叶新民
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叶新民
;
王文源
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王文源
;
周晓明
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周晓明
.
中国专利
:CN201638808U
,2010-11-17
[3]
芯片背面复合材料多层金属化方法
[P].
王新潮
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王新潮
;
冯东明
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冯东明
;
叶新民
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叶新民
;
王文源
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王文源
;
祝振
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祝振
.
中国专利
:CN101826472A
,2010-09-08
[4]
陶瓷衬底上的多层金属化
[P].
S·阿德勒
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S·阿德勒
;
R·迪尔施
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R·迪尔施
;
A·蒂姆
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A·蒂姆
.
中国专利
:CN105074913B
,2015-11-18
[5]
具有应力减少夹层的多层金属化
[P].
J.费尔斯特
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J.费尔斯特
;
M.施内甘斯
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0
M.施内甘斯
.
中国专利
:CN102903688A
,2013-01-30
[6]
包括多层金属化的功率半导体器件
[P].
托马斯·埃德加·哈林顿三世
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
托马斯·埃德加·哈林顿三世
;
布赖斯·麦克弗森
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
布赖斯·麦克弗森
;
斯科特·艾伦
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机构:
沃孚半导体公司
沃孚半导体公司
斯科特·艾伦
.
美国专利
:CN120548611A
,2025-08-26
[7]
包括多层金属化层的半导体器件
[P].
伊沃·约翰内斯·梅蒂尔迪斯·玛丽亚·拉伊
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伊沃·约翰内斯·梅蒂尔迪斯·玛丽亚·拉伊
.
中国专利
:CN1024066C
,1990-07-18
[8]
太阳能电池的多层金属化结构的实现方法
[P].
盛赟
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盛赟
;
盛健
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盛健
;
袁声召
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袁声召
;
王伟
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王伟
;
蔡文浩
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蔡文浩
;
张淳
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张淳
.
中国专利
:CN104465881A
,2015-03-25
[9]
多通道发射器阵列的多层金属化
[P].
A.V.巴夫
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A.V.巴夫
;
M.G.彼得斯
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M.G.彼得斯
;
E.R.赫格布洛姆
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E.R.赫格布洛姆
.
中国专利
:CN113594853A
,2021-11-02
[10]
多层金属化芯板堆叠混合键合方法及结构
[P].
杨斌
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机构:
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
杨斌
;
华显刚
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机构:
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
华显刚
;
贺姝敏
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机构:
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
广东佛智芯微电子技术研究有限公司
贺姝敏
.
中国专利
:CN120413426A
,2025-08-01
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