一种低电阻率氧化铌掺铌溅射旋转靶材及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510180790.0

申请日：

2015-04-16

公开(公告)号：

CN104831243A

公开(公告)日：

2015-08-12

发明(设计)人：

罗永春曾墩风张斐王志强

申请人：

申请人地址：

361000 福建省厦门市同安区苏厝路73号1#厂房第一层

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C22C2912 C23C406 C23C412

代理机构：

厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218

代理人：

方惠春

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-14	授权	授权
2015-08-12	公开	公开
2016-04-20	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101731149777 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2015101807900 登记生效日:20160330 变更事项:申请人变更前权利人:厦门映日新材料科技有限公司变更后权利人:芜湖映日科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:361000 福建省厦门市同安区苏厝路73号1#厂房第一层变更后权利人:241000 安徽省芜湖市芜湖经济技术开发区汽经一路5号1-005
2021-09-14	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/34 变更事项:专利权人变更前:芜湖映日科技有限公司变更后:芜湖映日科技股份有限公司变更事项:地址变更前:241000 安徽省芜湖市芜湖经济技术开发区汽经一路5号1-005 变更后:241000 安徽省芜湖市自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房

共 50 条

[1]

一种氧化铌旋转靶材及其制备方法 [P].

扈百直 ;

胥小勇 ;

刘孝宁 ;

张红梅 ;

赵清慧 ;

马文卫 ;

马建保 ;

杨小林 ;

胡海霞 .

中国专利 :CN103045995A ,2013-04-17

[2]

一种低电阻率五氧化二铌热压靶材及其制备方法 [P].

张瑜 ;

林志河 .

中国专利 :CN111606708A ,2020-09-01

[3]

一种低电阻率微硼掺杂旋转溅射硅靶材及其制备方法 [P].

罗永春 ;

曾墩风 ;

罗建冬 ;

王志强 .

中国专利 :CN104775097A ,2015-07-15

[4]

一种氧化铌旋转靶材及其制备方法 [P].

刘亚凡 ;

连升 ;

孙永利 ;

张涛 ;

文崇斌 ;

张文涛 ;

童培云 .

中国专利 :CN120249898A ,2025-07-04

[5]

一种高致密低电阻氧化铌旋转靶材及其制备方法 [P].

胡强楠 ;

征卫星 ;

马文卫 ;

张帅 ;

赵志勇 ;

刘秉宁 ;

孟将 ;

李正飞 ;

饶晓方 .

中国专利 :CN110467462A ,2019-11-19

[6]

一种氧化铌旋转靶材及其制备方法 [P].

张士察 ;

孙振德 .

中国专利 :CN104961463B ,2015-10-07

[7]

铌旋转靶材及其制备方法 [P].

杨永杰 ;

秦颖楠 ;

朱永超 ;

陆海涛 ;

尹志锋 .

中国专利 :CN121178853A ,2025-12-23

[8]

氧化铌旋转靶材的制备方法 [P].

宋伟杰 .

中国专利 :CN110218090B ,2019-09-10

[9]

一种氧化铌喷涂粉、氧化铌靶材及其制备方法 [P].

董小雨 ;

刘文杰 ;

余芳 ;

童培云 .

中国专利 :CN120365065A ,2025-07-25

[10]

一种氧化铌靶材 [P].

侯俊男 ;

牛中奇 .

中国专利 :CN212770921U ,2021-03-23

← 1 2 3 4 5 →