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形成透明金属氧化物薄膜的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810173868.6
申请日
:
2008-10-29
公开(公告)号
:
CN101728008A
公开(公告)日
:
2010-06-09
发明(设计)人
:
张正杰
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾台北县
IPC主分类号
:
H01B514
IPC分类号
:
H01B1300
C23C3000
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
周国城
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-07-11
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101411937145 IPC(主分类):H01B 5/14 专利申请号:2008101738686 公开日:20100609
2010-06-09
公开
公开
共 50 条
[1]
金属氧化物薄膜,沉积金属氧化物薄膜的方法及包含金属氧化物薄膜的装置
[P].
一杉太郎
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一杉太郎
.
中国专利
:CN107074662B
,2017-08-18
[2]
透明导电氧化物薄膜的制备方法
[P].
刘铭全
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机构:
星钥(珠海)半导体有限公司
星钥(珠海)半导体有限公司
刘铭全
.
中国专利
:CN119730486A
,2025-03-28
[3]
透明导电氧化物薄膜的制备方法
[P].
陈剑辉
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陈剑辉
;
李锋
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李锋
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沈燕龙
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沈燕龙
;
赵文超
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赵文超
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李高非
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李高非
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胡志岩
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胡志岩
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熊景峰
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熊景峰
;
宋登元
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宋登元
.
中国专利
:CN103147041A
,2013-06-12
[4]
透明导电氧化物薄膜的制备方法
[P].
崔鸽
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崔鸽
;
董刚强
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董刚强
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李沅民
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李沅民
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谭钦
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谭钦
.
中国专利
:CN111446149A
,2020-07-24
[5]
金属氧化物薄膜的制备方法
[P].
李言荣
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李言荣
;
陶伯万
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陶伯万
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陈寅
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陈寅
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刘兴钊
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刘兴钊
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朱俊
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朱俊
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吴传贵
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吴传贵
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吴健
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吴健
.
中国专利
:CN100469940C
,2006-03-01
[6]
金属氧化物薄膜的制备方法
[P].
彭钊
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彭钊
.
中国专利
:CN111088484A
,2020-05-01
[7]
一种金属氧化物薄膜的制备方法及金属氧化物薄膜
[P].
杨振怀
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杨振怀
;
郭远军
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郭远军
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卫红
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卫红
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胡琅
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胡琅
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胡强
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胡强
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肖永能
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肖永能
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刘宏
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刘宏
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郭可升
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郭可升
.
中国专利
:CN114561617A
,2022-05-31
[8]
金属氧化物有序自组装图形化制备方法及金属氧化物薄膜
[P].
刘川
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刘川
;
李敏敏
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李敏敏
.
中国专利
:CN107644806A
,2018-01-30
[9]
金属氧化物薄膜及其制造方法
[P].
福久孝治
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福久孝治
;
中岛章
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中岛章
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筱原贤次
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筱原贤次
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渡部俊也
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渡部俊也
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大崎寿
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大崎寿
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芹川正
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芹川正
.
中国专利
:CN1564876A
,2005-01-12
[10]
一种双金属氧化物薄膜制备方法及双金属氧化物薄膜
[P].
明帅强
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
明帅强
;
戴昕童
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北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
戴昕童
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夏洋
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北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
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夏洋
;
屈芙蓉
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北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
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屈芙蓉
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何萌
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北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
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何萌
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赵丽莉
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北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
赵丽莉
;
吴非
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
吴非
;
夏天
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
夏天
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中国专利
:CN120924941A
,2025-11-11
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