形成透明金属氧化物薄膜的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200810173868.6
申请日
2008-10-29
公开(公告)号
CN101728008A
公开(公告)日
2010-06-09
发明(设计)人
张正杰
申请人
申请人地址
中国台湾台北县
IPC主分类号
H01B514
IPC分类号
H01B1300 C23C3000
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
周国城
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
金属氧化物薄膜,沉积金属氧化物薄膜的方法及包含金属氧化物薄膜的装置 [P]. 
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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