MEMS薄膜真空计及其制备方法

被引:0
申请号
CN202210244071.0
申请日
2022-03-14
公开(公告)号
CN114314498A
公开(公告)日
2022-04-12
发明(设计)人
王广猛 史晓晶 柳俊文
申请人
申请人地址
210032 江苏省南京市高新开发区星火路17号创智大厦B座6楼
IPC主分类号
B81B702
IPC分类号
B81C300 G01L2100
代理机构
北京中知法苑知识产权代理有限公司 11226
代理人
李明;赵吉阳
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
MEMS真空计及其制备方法 [P]. 
王广猛 ;
史晓晶 ;
柳俊文 .
中国专利 :CN113979405A ,2022-01-28
[2]
一种薄膜真空计及其制备方法 [P]. 
杨一新 .
中国专利 :CN117571196A ,2024-02-20
[3]
电容薄膜真空计 [P]. 
刘公超 ;
潘雨默 ;
刘旭强 ;
陶硕 ;
林立男 ;
闫冉 .
中国专利 :CN118624093A ,2024-09-10
[4]
电容薄膜真空计 [P]. 
王晓利 ;
赵胜义 ;
王育才 .
中国专利 :CN308854823S ,2024-09-24
[5]
微型真空计及其制备方法 [P]. 
冯刘昊东 ;
陈朔 ;
郭松 ;
彭鑫林 ;
季宇成 ;
许杨 ;
王诗男 .
中国专利 :CN118464281A ,2024-08-09
[6]
一种电容薄膜真空计及其制备方法 [P]. 
雷程 ;
余建刚 ;
梁庭 ;
张臻昊 ;
李腾腾 ;
李丰超 ;
李鑫浦 ;
李志强 .
中国专利 :CN119178552A ,2024-12-24
[7]
一种基于MEMS技术的电容薄膜真空计 [P]. 
李刚 ;
成永军 ;
何申伟 ;
孙雯君 ;
习振华 ;
张瑞芳 ;
杨利 .
中国专利 :CN111141443A ,2020-05-12
[8]
基于MEMS的高灵敏度电容薄膜真空计及其制作方法 [P]. 
陶继方 ;
刘汉哲 .
中国专利 :CN115508001A ,2022-12-23
[9]
一种电容薄膜真空计 [P]. 
黄星星 ;
侯少毅 ;
卫红 ;
刘乔 ;
胡强 .
中国专利 :CN114459670A ,2022-05-10
[10]
电容式薄膜真空计检测装置、真空计及检测方法 [P]. 
王松杰 ;
廖兴才 ;
林立男 ;
汤一 ;
闫冉 ;
王杰 ;
宋冬谊 ;
唐嫒尧 ;
高乐 .
中国专利 :CN115031896B ,2024-06-07