光刻胶去除工艺的测试方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711305598.5

申请日：

2017-12-08

公开(公告)号：

CN108063100B

公开(公告)日：

2018-05-22

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

312500 浙江省绍兴市新昌县七星街道省级高新技术园区内新涛路69号美盛文化6号厂房(住所申报)

IPC主分类号：

H01L2166

IPC分类号：

代理机构：

南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475

代理人：

张丽丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20171208
2021-04-16	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/66 登记生效日:20210407 变更事项:申请人变更前权利人:深圳市晶特智造科技有限公司变更后权利人:绍兴奥美电子科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区骏丰工业区A3栋一楼变更后权利人:312500 浙江省绍兴市新昌县七星街道省级高新技术园区内新涛路69号美盛文化6号厂房(住所申报)
2021-04-27	授权	授权
2018-05-22	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 .

中国专利 :CN101354542A ,2009-01-28

[2]

光刻胶的去除方法 [P].

李俊良 .

中国专利 :CN102768476A ,2012-11-07

[3]

光刻胶去除方法 [P].

南兑浩 ;

李大烨 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

周娜 .

中国专利 :CN114764219A ,2022-07-19

[4]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

高腾飞 ;

荆泉 ;

孙建 ;

吕煜坤 ;

张旭昇 .

中国专利 :CN102968003A ,2013-03-13

[6]

光刻胶的去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

杨平 ;

刘志强 .

中国专利 :CN102610511A ,2012-07-25

[7]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[8]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[9]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[10]

光刻胶去除腔的清洗方法 [P].

张硕 ;

吴长明 ;

冯大贵 ;

余鹏 ;

孙建 ;

李先宏 ;

尚柯 .

中国专利 :CN115407623A ,2022-11-29

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