等离子约束装置及等离子体设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010607931.3
申请日
2020-06-30
公开(公告)号
CN111653468A
公开(公告)日
2020-09-11
发明(设计)人
吴堃 杨猛
申请人
申请人地址
201500 上海市金山区卫昌路293号2幢12638室
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子约束装置及等离子体设备 [P]. 
吴堃 ;
杨猛 .
中国专利 :CN212411997U ,2021-01-26
[2]
等离子约束装置及等离子体设备 [P]. 
吴堃 .
中国专利 :CN111446146A ,2020-07-24
[3]
等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P]. 
傅时梁 ;
杨金全 ;
王枫 .
中国专利 :CN212461598U ,2021-02-02
[4]
等离子体约束装置 [P]. 
倪图强 ;
陈金元 ;
钱青 ;
付越虹 ;
徐朝阳 ;
周旭升 ;
王晔 .
中国专利 :CN101150909A ,2008-03-26
[5]
等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P]. 
南建辉 ;
宋巧丽 .
中国专利 :CN101419904B ,2009-04-29
[6]
等离子体约束装置及利用该等离子体约束装置的等离子体处理装置 [P]. 
陈金元 ;
周宁 ;
欧阳亮 ;
吴狄 ;
徐朝阳 ;
杜志游 ;
尹志尧 .
中国专利 :CN201514924U ,2010-06-23
[7]
等离子体约束装置和等离子体加工设备 [P]. 
南建辉 ;
宋巧丽 .
中国专利 :CN101383278B ,2009-03-11
[8]
等离子体约束装置 [P]. 
彭帆 ;
吴狄 ;
周宁 ;
邱达燕 .
中国专利 :CN202423213U ,2012-09-05
[9]
利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置 [P]. 
E·H·伦茨 ;
R·D·迪布尔 .
中国专利 :CN1148105A ,1997-04-23
[10]
利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置 [P]. 
E·H·伦茨 ;
R·D·迪布尔 .
中国专利 :CN1405857A ,2003-03-26