利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02130235.9

申请日：

1996-06-21

公开(公告)号：

CN1405857A

公开(公告)日：

2003-03-26

发明(设计)人：

E·H·伦茨 R·D·迪布尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张志醒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-06-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2003-03-26	公开	公开
2003-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-04-13	授权	授权
2016-07-27	专利权的终止	专利权有效期届满号牌文件类型代码:1611 号牌文件序号:101672087209 IPC(主分类):H01L 21/3065 专利号:ZL021302359 申请日:19960621 授权公告日:20050413 终止日期:无

共 50 条

[1]

利用等离子体约束装置的等离子体蚀刻装置 [P].

E·H·伦茨 ;

R·D·迪布尔 .

中国专利 :CN1148105A ,1997-04-23

[2]

等离子体约束装置及利用该等离子体约束装置的等离子体处理装置 [P].

陈金元 ;

周宁 ;

欧阳亮 ;

吴狄 ;

徐朝阳 ;

杜志游 ;

尹志尧 .

中国专利 :CN201514924U ,2010-06-23

[3]

等离子体约束装置 [P].

倪图强 ;

陈金元 ;

钱青 ;

付越虹 ;

徐朝阳 ;

周旭升 ;

王晔 .

中国专利 :CN101150909A ,2008-03-26

[4]

等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P].

南建辉 ;

宋巧丽 .

中国专利 :CN101419904B ,2009-04-29

[5]

等离子体约束装置和等离子体加工设备 [P].

南建辉 ;

宋巧丽 .

中国专利 :CN101383278B ,2009-03-11

[6]

等离子体约束装置 [P].

彭帆 ;

吴狄 ;

周宁 ;

邱达燕 .

中国专利 :CN202423213U ,2012-09-05

[7]

等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P].

傅时梁 ;

杨金全 ;

王枫 .

中国专利 :CN212461598U ,2021-02-02

[8]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[9]

等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置 [P].

穆罕默德·菲依鲁斯·宾布迪曼 ;

辻本宏 .

中国专利 :CN111801776A ,2020-10-20

[10]

等离子体蚀刻方法和等离子体蚀刻装置 [P].

八田浩一 ;

前川薫 ;

佐藤渚 ;

大野久美子 ;

田原慈 ;

雅各·法盖 ;

雷米·杜萨特 ;

托马斯·蒂洛彻 ;

菲利普·勒福舍 ;

盖尔·安托万 .

中国专利 :CN111527591A ,2020-08-11

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