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Si衬底上GaN薄膜的生长方法及复合GaN薄膜
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510504913.1
申请日
:
2015-08-17
公开(公告)号
:
CN105161578B
公开(公告)日
:
2015-12-16
发明(设计)人
:
刘波亭
马平
郭仕宽
甄爱功
张烁
吴冬雪
王军喜
李晋闽
申请人
:
申请人地址
:
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
:
H01L3300
IPC分类号
:
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
宋焰琴
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-01-13
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101642488493 IPC(主分类):H01L 33/00 专利申请号:2015105049131 申请日:20150817
2018-03-23
授权
授权
2015-12-16
公开
公开
共 50 条
[1]
Si衬底GaN基薄膜的生长方法
[P].
张佰君
论文数:
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0
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张佰君
;
罗睿宏
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罗睿宏
;
向鹏
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向鹏
;
刘扬
论文数:
0
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0
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刘扬
.
中国专利
:CN102061519A
,2011-05-18
[2]
一种生长在Si衬底上的GaN薄膜
[P].
高芳亮
论文数:
0
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0
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0
高芳亮
.
中国专利
:CN212085035U
,2020-12-04
[3]
生长在Si衬底上的GaN薄膜及其制备方法
[P].
不公告发明人
论文数:
0
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不公告发明人
.
中国专利
:CN115148794A
,2022-10-04
[4]
生长在Si衬底上的GaN薄膜及其制备方法
[P].
请求不公布姓名
论文数:
0
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0
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机构:
无锡先为科技有限公司
无锡先为科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN115148794B
,2025-09-05
[5]
生长在玻璃衬底上的GaN薄膜
[P].
李国强
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李国强
;
高芳亮
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高芳亮
;
张曙光
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张曙光
.
中国专利
:CN206422089U
,2017-08-18
[6]
一种生长在Si衬底上的GaN薄膜
[P].
李国强
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李国强
.
中国专利
:CN203910838U
,2014-10-29
[7]
一种Si衬底上外延生长GaN薄膜的方法
[P].
钟蓉
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钟蓉
;
仇成功
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仇成功
;
彭鹏
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彭鹏
;
甄龙云
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甄龙云
;
薛遥
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薛遥
;
李冬冬
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李冬冬
;
周建华
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周建华
.
中国专利
:CN110541157A
,2019-12-06
[8]
一种Si衬底GaN外延薄膜的生长方法
[P].
潘拴
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潘拴
;
陈芝向
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陈芝向
;
张建立
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张建立
;
郑畅达
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郑畅达
;
王小兰
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王小兰
;
高江东
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高江东
;
李丹
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李丹
;
杨小霞
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0
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杨小霞
.
中国专利
:CN114823284A
,2022-07-29
[9]
生长在W衬底上的GaN薄膜
[P].
李国强
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李国强
;
王文樑
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王文樑
;
刘作莲
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刘作莲
;
杨为家
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杨为家
;
林云昊
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林云昊
;
周仕忠
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周仕忠
;
钱慧荣
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钱慧荣
.
中国专利
:CN204067411U
,2014-12-31
[10]
一种GaN复合薄膜及在Si衬底上形成GaN复合薄膜的方法
[P].
赵丹梅
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赵丹梅
;
赵德刚
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赵德刚
;
江德生
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江德生
;
刘宗顺
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刘宗顺
;
陈平
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陈平
.
中国专利
:CN104141171A
,2014-11-12
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