半导体集成电路装置的制造方法及半导体集成电路装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201680046674.2
申请日
2016-07-26
公开(公告)号
CN107912068A
公开(公告)日
2018-04-13
发明(设计)人
大和田福夫 谷口泰弘 川嶋泰彦 吉田信司 葛西秀男 樱井良多郎 品川裕 奥山幸祐
申请人
申请人地址
日本国东京都
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L218234 H01L27088 H01L2710 H01L2711521 H01L2711568 H01L29788 H01L29792
代理机构
北京海智友知识产权代理事务所(普通合伙) 11455
代理人
吴京顺
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
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半导体集成电路 [P]. 
山上由展 .
中国专利 :CN1629981A ,2005-06-22
[42]
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和田政春 .
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半导体集成电路 [P]. 
周嘉杰 .
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小川幸生 ;
东井亮 ;
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布赖恩·阿特伍德 ;
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作川守 ;
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[48]
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米田贵史 ;
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[50]
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古田博伺 .
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