导电性图案的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510120067.X

申请日：

2005-11-03

公开(公告)号：

CN1780531A

公开(公告)日：

2006-05-31

发明(设计)人：

丰田直之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H05K312

IPC分类号：

H05B3310 B41J201

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-07-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-05-31	公开	公开
2009-09-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

导电性基板、导电性基板的制造方法 [P].

须田贵广 .

中国专利 :CN107850967B ,2018-03-27

[2]

图案形成方法` [P].

川濑健夫 .

中国专利 :CN1476049A ,2004-02-18

[3]

导电细线的形成方法、透明导电体的制造方法、器件的制造方法以及导电性油墨与基材的组合 [P].

田郡大隆 ;

山内正好 ;

青山亮 .

中国专利 :CN112640590A ,2021-04-09

[4]

膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 [P].

长谷井宏宣 ;

平井利充 .

中国专利 :CN1501436A ,2004-06-02

[5]

膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 [P].

长谷井宏宣 ;

平井利充 .

中国专利 :CN100397580C ,2006-08-23

[6]

膜图案的形成方法、薄膜制造装置、导电膜布线 [P].

长谷井宏宣 ;

平井利充 .

中国专利 :CN1822324A ,2006-08-23

[7]

透明导电性薄膜及透明导电性薄膜层叠体 [P].

松本圭祐 ;

酒井和也 ;

安藤豪彦 .

中国专利 :CN109698042A ,2019-04-30

[8]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子机器 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 .

中国专利 :CN106413917A ,2017-02-15

[9]

抗蚀剂图案形成方法 [P].

中川大树 ;

中岛浩光 ;

若松刚史 ;

原田健太郎 ;

西村幸生 ;

盐谷健夫 .

中国专利 :CN102109760A ,2011-06-29

[10]

导体图案形成用墨液、导体图案、导体图案的形成方法及配线基板 [P].

丰田直之 .

中国专利 :CN101691458B ,2010-04-07

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