一种半导体元件用清洗装置

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申请号
CN202220730133.4
申请日
2022-03-31
公开(公告)号
CN217831007U
公开(公告)日
2022-11-18
发明(设计)人
杨砚红
申请人
申请人地址
201799 上海市青浦区上海青浦工业园区天一路455号
IPC主分类号
B08B304
IPC分类号
B08B310 B08B1300
代理机构
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297
代理人
潘春燕
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体元件用清洗装置 [P]. 
李峰 ;
李振锋 .
中国专利 :CN221017660U ,2024-05-28
[2]
一种半导体元件用清洗装置 [P]. 
罗艳玲 ;
龚秀友 ;
王敬 .
中国专利 :CN210936181U ,2020-07-07
[3]
一种半导体元件清洗装置 [P]. 
曹周 ;
敖利波 .
中国专利 :CN203536382U ,2014-04-09
[4]
一种半导体元件清洗装置 [P]. 
郭莲朵 .
中国专利 :CN207021237U ,2018-02-16
[5]
一种半导体元件清洗装置 [P]. 
夏正浩 .
中国专利 :CN220387283U ,2024-01-26
[6]
一种半导体元件清洗装置 [P]. 
周武 .
中国专利 :CN218167960U ,2022-12-30
[7]
一种半导体清洗装置 [P]. 
黄祥恩 ;
韦文龙 ;
孙浩铭 .
中国专利 :CN213103534U ,2021-05-04
[8]
一种半导体元件清洗装置 [P]. 
卓廷厚 .
中国专利 :CN206059356U ,2017-03-29
[9]
一种半导体元件加工使用的清洗装置 [P]. 
王凡 .
中国专利 :CN216937349U ,2022-07-12
[10]
半导体元件用干冰清洗设备 [P]. 
陈铁龙 ;
林智颖 ;
陈坤 ;
张振 ;
孙东初 .
中国专利 :CN214160740U ,2021-09-10