一种磁控溅射设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201820969086.2
申请日
2018-06-22
公开(公告)号
CN208762572U
公开(公告)日
2019-04-19
发明(设计)人
刘洋 汪振南 雷绍温 杨永雷 见东伟 张伟 邬英 刘福山 韩晓琳
申请人
申请人地址
037000 山西省大同市云州街东延北侧7899号
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447
代理人
陈庆超;桑传标
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P]. 
魏钰 ;
宋博韬 ;
成军 ;
刘宁 .
中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08
[2]
一种磁控溅射靶与磁控溅射设备 [P]. 
陈岩 ;
杜晓健 ;
高博 .
中国专利 :CN202786406U ,2013-03-13
[3]
一种磁控溅射传动装置及磁控溅射设备 [P]. 
曹峻峰 ;
张伟建 ;
王星辰 ;
狄贺 ;
凡伟伟 ;
陆黎华 .
中国专利 :CN220300836U ,2024-01-05
[4]
一种磁控溅射装置和磁控溅射设备 [P]. 
李皓瑜 ;
刘宇翔 ;
张建红 ;
朱之贞 ;
胡建明 ;
陈权 ;
杨津听 ;
李坤伦 ;
柴大克 ;
孙胜凡 ;
丁洁 ;
周雄飞 ;
聂川滨 ;
杨红飞 ;
俞云坤 ;
曾仁武 .
中国专利 :CN208604202U ,2019-03-15
[5]
一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 [P]. 
张永胜 ;
解传佳 ;
周振国 ;
武瑞军 ;
彭孝龙 ;
莫超超 .
中国专利 :CN115537747B ,2024-04-23
[6]
一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 [P]. 
张永胜 ;
解传佳 ;
周振国 ;
武瑞军 ;
彭孝龙 ;
莫超超 .
中国专利 :CN115537747A ,2022-12-30
[7]
磁控溅射装置和磁控溅射设备 [P]. 
毛瑞锋 ;
金相起 ;
程贯杰 ;
李阳阳 ;
王宜申 .
中国专利 :CN206706198U ,2017-12-05
[8]
磁控溅射装置及磁控溅射设备 [P]. 
胡小波 ;
张晓军 ;
李佳小龙 ;
谢明辉 .
中国专利 :CN223561668U ,2025-11-18
[9]
一种磁控溅射靶座及磁控溅射设备 [P]. 
杨明 ;
王子彤 ;
解庆权 ;
王刚 ;
邢雪 ;
刘畅 ;
王磊 ;
石也琛 .
中国专利 :CN222226526U ,2024-12-24
[10]
磁控溅射装置及磁控溅射设备 [P]. 
胡小波 ;
张晓军 .
中国专利 :CN222182418U ,2024-12-17