一种抛光液及应用该抛光液对锑化镓晶片进行抛光的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201611114093.6

申请日：

2016-12-07

公开(公告)号：

CN106590439B

公开(公告)日：

2017-04-26

发明(设计)人：

程雨肖钰李春领

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路4号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

工业和信息化部电子专利中心 11010

代理人：

于金平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101721561100 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2016111140936 申请日:20161207
2017-04-26	公开	公开
2019-02-05	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光液及应用该抛光液对CdS晶片抛光的抛光方法 [P].

李晖 ;

徐永宽 ;

程红娟 .

中国专利 :CN102952467A ,2013-03-06

[2]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101397482A ,2009-04-01

[3]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101333417A ,2008-12-31

[4]

一种锑化镓精抛光液及精抛光方法 [P].

石志奎 ;

王世峰 ;

张栓平 ;

王泽华 .

中国专利 :CN118126633A ,2024-06-04

[5]

一种抛光液及采用该抛光液的抛光方法 [P].

徐贤德 .

中国专利 :CN109536038A ,2019-03-29

[6]

半导体材料的抛光方法、用于锑化镓衬底抛光的抛光液 [P].

陈意桥 ;

钱磊 ;

周千学 .

中国专利 :CN112701037A ,2021-04-23

[7]

金属抛光液和使用该金属抛光液的抛光方法 [P].

富贺敬充 ;

加藤知夫 .

中国专利 :CN101230238A ,2008-07-30

[8]

一种铝化学抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

吴育祥 ;

李德荣 ;

何友余 .

中国专利 :CN105331979B ,2016-02-17

[9]

一种化学抛光液及采用该化学抛光液的抛光工艺 [P].

柴景文 ;

胡国林 .

中国专利 :CN110438508A ,2019-11-12

[10]

抛光液和抛光方法 [P].

斋江俊之 .

中国专利 :CN101397480A ,2009-04-01

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