一种酸活性树脂以及光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110102205.0

申请日：

2021-01-26

公开(公告)号：

CN112920314A

公开(公告)日：

2021-06-08

发明(设计)人：

顾大公许东升余绍山齐国强岳力挽马潇李珊珊毛智彪许从应

申请人：

申请人地址：

315800 浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

IPC主分类号：

C08F22018

IPC分类号：

C08F22028 G03F7004

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333

代理人：

贾振勇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-08	公开	公开
2021-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/18 申请日:20210126

共 50 条

[1]

具有光酸活性的光刻胶树脂及光刻胶 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112925167A ,2021-06-08

[2]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

[3]

一种光刻胶树脂单体 [P].

张猛 ;

王巧玲 .

中国专利 :CN112159341A ,2021-01-01

[4]

一种正性化学放大光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN120775098A ,2025-10-14

[5]

一种光刻胶树脂单体及其合成方法 [P].

蒋小惠 ;

潘惠英 ;

李嫚嫚 ;

王尹卓 ;

毕景峰 .

中国专利 :CN112625022A ,2021-04-09

[6]

一种光刻胶组合物以及形成光刻胶图案的方法 [P].

汤红英 ;

吴世泰 ;

徐普 .

中国专利 :CN120540005A ,2025-08-26

[7]

一种浸没式ArF光刻用光产酸剂及光刻胶组合物 [P].

王溯 ;

方书农 ;

徐森 .

中国专利 :CN113820918A ,2021-12-21

[8]

树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法 [P].

王辉 ;

廖辉华 ;

宋智辉 ;

康报虹 .

中国专利 :CN115521392A ,2022-12-27

[9]

一种光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用 [P].

傅志伟 ;

潘新刚 ;

薛富奎 ;

纪兴跃 ;

刘司飞 .

中国专利 :CN113620921A ,2021-11-09

[10]

一种光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

马潇 ;

余绍山 ;

陈鹏 ;

齐国强 ;

许东升 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112794941A ,2021-05-14

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