具有光酸活性的光刻胶树脂及光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110102217.3

申请日：

2021-01-26

公开(公告)号：

CN112925167A

公开(公告)日：

2021-06-08

发明(设计)人：

顾大公许东升余绍山齐国强岳力挽马潇李珊珊毛智彪许从应

申请人：

申请人地址：

315800 浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

C08F22018 C08F22032 C08F22024 C08F22020

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333

代理人：

贾振勇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20210126
2021-06-08	公开	公开

共 50 条

[1]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

[2]

一种酸活性树脂以及光刻胶 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112920314A ,2021-06-08

[3]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[4]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[5]

聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114539518A ,2022-05-27

[6]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[7]

浸没式光刻胶用树脂、制备方法及浸没式光刻胶 [P].

朱凉伟 ;

李培源 ;

陈礼翼 ;

尹航 ;

陈鹏 ;

沈博 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN119798525A ,2025-04-11

[8]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[9]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[10]

光刻胶涂布吸头及光刻胶涂布装置 [P].

汪良恩 ;

汪曦凌 ;

伍银辉 .

中国专利 :CN204347432U ,2015-05-20

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