湿蚀刻设备及其使用的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911198828.1

申请日：

2019-11-25

公开(公告)号：

CN111223797A

公开(公告)日：

2020-06-02

发明(设计)人：

吕鸿霆廖汉文

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20191125
2020-06-02	公开	公开

共 50 条

[1]

湿蚀刻设备及其使用的方法 [P].

吕鸿霆 ;

廖汉文 .

中国专利 :CN111223772B ,2020-06-02

[2]

湿蚀刻设备及湿蚀刻方法 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

邱立峰 .

中国专利 :CN1797221B ,2006-07-05

[3]

蚀刻设备和使用蚀刻设备的蚀刻方法 [P].

全大植 ;

李政范 ;

车城昊 ;

罗圣闵 ;

宋明坤 ;

金德镐 ;

林庆辰 .

中国专利 :CN101140859A ,2008-03-12

[4]

湿蚀刻设备 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

邱立峰 .

中国专利 :CN2763268Y ,2006-03-08

[5]

湿蚀刻设备 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

黄昌桂 ;

陈青枫 ;

黄志鸿 .

中国专利 :CN100419121C ,2005-11-16

[6]

湿蚀刻设备 [P].

王建刚 .

中国专利 :CN109166809A ,2019-01-08

[7]

晶片的单片式蚀刻方法及其蚀刻设备 [P].

加藤健夫 ;

桥井友裕 ;

村山克彦 ;

古屋田荣 ;

高石和成 .

中国专利 :CN101276756A ,2008-10-01

[8]

湿式蚀刻设备及其供应装置 [P].

曾子章 ;

陈宗源 .

中国专利 :CN103484860A ,2014-01-01

[9]

一种具有活动盖板的湿蚀刻设备及湿蚀刻方法 [P].

顾玲燕 ;

朱龙 ;

任奕宇 ;

李翔 ;

承明忠 .

中国专利 :CN110429053B ,2019-11-08

[10]

使用蚀刻剂的蚀刻方法 [P].

石田辉和 ;

出口友香里 ;

佐藤未菜 .

中国专利 :CN103820783A ,2014-05-28

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