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一种具有活动盖板的湿蚀刻设备及湿蚀刻方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910764932.6
申请日
:
2019-08-19
公开(公告)号
:
CN110429053B
公开(公告)日
:
2019-11-08
发明(设计)人
:
顾玲燕
朱龙
任奕宇
李翔
承明忠
申请人
:
申请人地址
:
214400 江苏省无锡市江阴市周庄镇长寿云顾路581号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L21677
代理机构
:
无锡坚恒专利代理事务所(普通合伙) 32348
代理人
:
杜兴
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-12-03
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190819
2021-03-23
授权
授权
2019-11-08
公开
公开
共 50 条
[1]
湿蚀刻设备及湿蚀刻方法
[P].
高胜洲
论文数:
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0
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高胜洲
;
黄荣龙
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黄荣龙
;
欧振宪
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欧振宪
;
邱立峰
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邱立峰
.
中国专利
:CN1797221B
,2006-07-05
[2]
一种用于湿蚀刻的蚀刻设备
[P].
郑庆靓
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机构:
拓维光电材料(滁州)有限公司
拓维光电材料(滁州)有限公司
郑庆靓
;
汤茂林
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机构:
拓维光电材料(滁州)有限公司
拓维光电材料(滁州)有限公司
汤茂林
;
刘贵福
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机构:
拓维光电材料(滁州)有限公司
拓维光电材料(滁州)有限公司
刘贵福
;
盛冬冬
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机构:
拓维光电材料(滁州)有限公司
拓维光电材料(滁州)有限公司
盛冬冬
.
中国专利
:CN220907657U
,2024-05-07
[3]
湿蚀刻装置和湿蚀刻方法
[P].
绪方正一
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绪方正一
;
菅长大辅
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菅长大辅
.
中国专利
:CN102473627B
,2012-05-23
[4]
一种湿蚀刻设备
[P].
欧阳志升
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欧阳志升
;
陈建同
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陈建同
;
姚洋羽
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姚洋羽
;
廖钦盛
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廖钦盛
.
中国专利
:CN201520802U
,2010-07-07
[5]
湿蚀刻设备
[P].
高胜洲
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高胜洲
;
黄荣龙
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黄荣龙
;
欧振宪
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欧振宪
;
邱立峰
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邱立峰
.
中国专利
:CN2763268Y
,2006-03-08
[6]
湿蚀刻设备
[P].
高胜洲
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高胜洲
;
黄荣龙
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黄荣龙
;
欧振宪
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欧振宪
;
黄昌桂
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黄昌桂
;
陈青枫
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陈青枫
;
黄志鸿
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黄志鸿
.
中国专利
:CN100419121C
,2005-11-16
[7]
湿蚀刻设备
[P].
王建刚
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王建刚
.
中国专利
:CN109166809A
,2019-01-08
[8]
湿蚀刻方法
[P].
松崎荣
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松崎荣
.
中国专利
:CN112309848A
,2021-02-02
[9]
湿蚀刻方法
[P].
松崎荣
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机构:
株式会社迪思科
株式会社迪思科
松崎荣
.
日本专利
:CN112309848B
,2025-11-28
[10]
湿式蚀刻方法和蚀刻液
[P].
八尾章史
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八尾章史
;
山内邦裕
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山内邦裕
;
藤原昌生
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藤原昌生
;
宫崎达夫
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宫崎达夫
.
中国专利
:CN107533971A
,2018-01-02
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