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半导体器件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201611195878.0
申请日
:
2016-12-22
公开(公告)号
:
CN107032290A
公开(公告)日
:
2017-08-11
发明(设计)人
:
张凯峯
吕联沂
蔡连尧
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
B81B702
IPC分类号
:
B81C100
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-08-11
公开
公开
2022-01-04
授权
授权
2019-06-11
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B81B 7/02 申请日:20161222
共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法
[P].
庄其毅
论文数:
0
引用数:
0
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0
庄其毅
;
陈豪育
论文数:
0
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陈豪育
;
程冠伦
论文数:
0
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0
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0
程冠伦
.
中国专利
:CN113675194A
,2021-11-19
[2]
半导体器件及其形成方法
[P].
郑明达
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑明达
;
李梓光
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李梓光
;
刘浩君
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘浩君
;
蔡柏豪
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡柏豪
;
林志贤
论文数:
0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林志贤
;
萧景文
论文数:
0
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0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
萧景文
.
中国专利
:CN113363160B
,2024-07-12
[3]
半导体器件及其形成方法
[P].
周智超
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
周智超
;
庄正吉
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄正吉
;
王志豪
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
;
蔡庆威
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡庆威
.
中国专利
:CN119894076A
,2025-04-25
[4]
半导体器件及其形成方法
[P].
李劭宽
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李劭宽
;
黄心岩
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黄心岩
;
吴永旭
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吴永旭
;
李承晋
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李承晋
;
陈海清
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陈海清
;
眭晓林
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0
眭晓林
.
中国专利
:CN110648993B
,2020-01-03
[5]
半导体器件及其形成方法
[P].
张哲诚
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张哲诚
;
林志翰
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0
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0
林志翰
.
中国专利
:CN107046001B
,2017-08-15
[6]
半导体器件及其形成方法
[P].
林孟良
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林孟良
;
黄震麟
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0
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黄震麟
.
中国专利
:CN106057760B
,2016-10-26
[7]
半导体器件及其形成方法
[P].
郑明达
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郑明达
;
李梓光
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李梓光
;
刘浩君
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刘浩君
;
蔡柏豪
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蔡柏豪
;
林志贤
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林志贤
;
萧景文
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萧景文
.
中国专利
:CN113363160A
,2021-09-07
[8]
半导体器件及其形成方法
[P].
郑明达
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郑明达
;
吕文雄
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吕文雄
;
康金玮
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康金玮
;
庄咏涵
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庄咏涵
;
毛隆凯
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毛隆凯
;
林永胜
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0
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林永胜
.
中国专利
:CN113517200A
,2021-10-19
[9]
半导体器件及其形成方法
[P].
周沛瑜
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周沛瑜
;
许家铭
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许家铭
;
李资良
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李资良
.
中国专利
:CN115424982A
,2022-12-02
[10]
半导体器件及其形成方法
[P].
庄其毅
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄其毅
;
陈豪育
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈豪育
;
程冠伦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
程冠伦
.
中国专利
:CN113675194B
,2024-08-27
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