半导体器件及其形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411502282.5

申请日：

2024-10-25

公开(公告)号：

CN119894076A

公开(公告)日：

2025-04-25

发明(设计)人：

周智超庄正吉王志豪蔡庆威

申请人：

台湾积体电路制造股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

H10D84/01

IPC分类号：

H10D84/80 H01L21/768 H01L23/532

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;李伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-25	公开	公开
2025-05-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H10D 84/01申请日:20241025

共 50 条

[1]

半导体器件及其形成方法 [P].

刘家助 ;

林立凯 .

中国专利 :CN120711805A ,2025-09-26

[2]

半导体器件及其形成方法 [P].

潘冠廷 ;

江国诚 ;

王志豪 .

中国专利 :CN121240512A ,2025-12-30

[3]

半导体器件及其形成方法 [P].

何韦德 ;

廖思雅 .

中国专利 :CN118231406A ,2024-06-21

[4]

半导体器件及其形成方法 [P].

杨柏峰 ;

杨世海 ;

贾汉中 ;

王圣祯 ;

林佑明 .

中国专利 :CN113517294A ,2021-10-19

[5]

半导体器件及其形成方法 [P].

许晋豪 ;

郑安皓 ;

林彦良 ;

萧茹雄 .

中国专利 :CN119028947A ,2024-11-26

[6]

半导体器件及其形成方法 [P].

程仲良 .

中国专利 :CN113437065B ,2024-10-18

[7]

半导体器件及其形成方法 [P].

程仲良 .

中国专利 :CN113437065A ,2021-09-24

[8]

半导体器件及其形成方法 [P].

吴国铭 ;

李汝谅 ;

陈昇照 .

中国专利 :CN119400773A ,2025-02-07

[9]

半导体器件及其形成方法 [P].

陈承先 ;

郭庭豪 ;

江慧君 ;

赖昱嘉 .

中国专利 :CN118280968A ,2024-07-02

[10]

半导体器件及其形成方法 [P].

游力蓁 ;

苏焕杰 ;

黄麟淯 ;

庄正吉 ;

王志豪 .

中国专利 :CN113517282B ,2024-12-24

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