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半导体器件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202511253136.8
申请日
:
2025-09-03
公开(公告)号
:
CN121240512A
公开(公告)日
:
2025-12-30
发明(设计)人
:
潘冠廷
江国诚
王志豪
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H10D84/01
IPC分类号
:
H10D84/83
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-30
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其形成方法
[P].
周智超
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
周智超
;
庄正吉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄正吉
;
王志豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
;
蔡庆威
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡庆威
.
中国专利
:CN119894076A
,2025-04-25
[2]
半导体器件及其形成方法
[P].
游力蓁
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
游力蓁
;
苏焕杰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
苏焕杰
;
黄麟淯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄麟淯
;
庄正吉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄正吉
;
王志豪
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
.
中国专利
:CN113517282B
,2024-12-24
[3]
半导体器件及其形成方法
[P].
刘家助
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘家助
;
林立凯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林立凯
.
中国专利
:CN120711805A
,2025-09-26
[4]
半导体器件及其形成方法
[P].
胡芳瑄
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
胡芳瑄
;
吴振诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴振诚
;
黄彦钧
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄彦钧
;
李资良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李资良
.
中国专利
:CN120813040A
,2025-10-17
[5]
半导体器件及其形成方法
[P].
何韦德
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
何韦德
;
廖思雅
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
廖思雅
.
中国专利
:CN118231406A
,2024-06-21
[6]
半导体器件及其形成方法
[P].
游力蓁
论文数:
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游力蓁
;
苏焕杰
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苏焕杰
;
黄麟淯
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黄麟淯
;
庄正吉
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庄正吉
;
王志豪
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王志豪
.
中国专利
:CN113517282A
,2021-10-19
[7]
半导体器件及其形成方法
[P].
朱峯庆
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朱峯庆
;
李威养
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李威养
;
杨丰诚
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杨丰诚
;
陈燕铭
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陈燕铭
.
中国专利
:CN113451307A
,2021-09-28
[8]
半导体器件及其形成方法
[P].
杨柏峰
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杨柏峰
;
杨世海
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杨世海
;
贾汉中
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贾汉中
;
王圣祯
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王圣祯
;
林佑明
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林佑明
.
中国专利
:CN113517294A
,2021-10-19
[9]
半导体器件及其形成方法
[P].
张荣宏
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张荣宏
;
庄宗翰
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄宗翰
;
张复成
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张复成
;
陈仕承
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈仕承
;
蔡佳澄
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蔡佳澄
;
江国诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
江国诚
;
王志豪
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王志豪
;
蓝文廷
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
蓝文廷
.
中国专利
:CN118156309A
,2024-06-07
[10]
半导体器件及其形成方法
[P].
许晋豪
论文数:
0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
许晋豪
;
郑安皓
论文数:
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑安皓
;
林彦良
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林彦良
;
萧茹雄
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
萧茹雄
.
中国专利
:CN119028947A
,2024-11-26
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