一种SOI晶圆片的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911028150.2
申请日
2019-10-28
公开(公告)号
CN110739208A
公开(公告)日
2020-01-31
发明(设计)人
高文琳
申请人
申请人地址
110000 辽宁省沈阳市沈阳出口加工区浑南东路15-22号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
H01L21762
代理机构
北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340
代理人
龙涛
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种SOI晶圆芯片的分离方法 [P]. 
张宾 ;
李若朋 ;
陈新准 ;
庄磊 ;
朱瑞 ;
陈善任 ;
程元红 ;
肖钧尹 ;
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[2]
SOI晶圆的制备方法 [P]. 
向晓 ;
张雅荣 ;
周平华 ;
徐洪涛 ;
张卫民 ;
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[3]
SOI晶圆的制备方法 [P]. 
刘张李 ;
莘海维 ;
蒙飞 ;
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[4]
SOI晶圆结构的制备方法及SOI晶圆结构 [P]. 
陈光华 ;
程勇 ;
彭坤 .
中国专利 :CN121076006A ,2025-12-05
[5]
SOI晶圆结构的制备方法及SOI晶圆结构 [P]. 
陈光华 ;
程勇 ;
彭坤 .
中国专利 :CN121076005A ,2025-12-05
[6]
一种SOI晶圆的制备方法 [P]. 
叶斐 ;
张晨膑 ;
刘红兵 ;
陈猛 .
中国专利 :CN118610153A ,2024-09-06
[7]
一种SOI晶圆的制备方法 [P]. 
魏星 ;
史晨雨 ;
薛忠营 .
中国专利 :CN120692923A ,2025-09-23
[8]
一种SOI晶圆的制造方法及其SOI晶圆 [P]. 
钟汇才 ;
朱慧珑 .
中国专利 :CN102623303A ,2012-08-01
[9]
贴合SOI晶圆的制造方法及贴合SOI晶圆 [P]. 
今井俊和 ;
吉田和彦 ;
二井谷美保 ;
若林大士 ;
石川修 .
中国专利 :CN112262455A ,2021-01-22
[10]
贴合SOI晶圆的制造方法及贴合SOI晶圆 [P]. 
今井俊和 ;
吉田和彦 ;
二井谷美保 ;
若林大士 ;
石川修 .
日本专利 :CN112262455B ,2024-08-16