基板处理装置及基板处理方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110153809.8
申请日
2021-02-04
公开(公告)号
CN113262951A
公开(公告)日
2021-08-17
发明(设计)人
上野幸一
申请人
申请人地址
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1
IPC主分类号
B05C1302
IPC分类号
B05C502 H01L21683 H01L2167
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
杨贝贝;臧建明
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
上野幸一 .
日本专利 :CN113262951B ,2024-11-15
[2]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P]. 
火口友美 ;
鳅场真树 ;
胡铃达 ;
岩川裕 ;
藤原直树 ;
吉原直彦 .
日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28
[3]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
川岸棱也 ;
高村幸宏 ;
大宅宗明 .
日本专利 :CN120341134A ,2025-07-18
[4]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
安陪裕滋 .
中国专利 :CN111715473B ,2020-09-29
[5]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
尾辻正幸 .
中国专利 :CN107437516A ,2017-12-05
[6]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
斋藤孝行 ;
铃木作 ;
山田薰 ;
伊藤贤也 ;
龟泽正之 ;
山口健二 .
中国专利 :CN1879199A ,2006-12-13
[7]
基板处理方法及基板处理装置 [P]. 
犹原英司 ;
冲田有史 ;
角间央章 ;
増井达哉 .
日本专利 :CN119517801A ,2025-02-25
[8]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
川岸棱也 ;
高村幸宏 ;
大宅宗明 .
日本专利 :CN120341133A ,2025-07-18
[9]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
西冈贤太郎 .
中国专利 :CN1757439A ,2006-04-12
[10]
基板处理装置及基板处理方法 [P]. 
大泽瑞树 ;
戎居博志 .
中国专利 :CN109216229B ,2019-01-15