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基板处理装置及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110153809.8
申请日
:
2021-02-04
公开(公告)号
:
CN113262951B
公开(公告)日
:
2024-11-15
发明(设计)人
:
上野幸一
申请人
:
株式会社斯库林集团
申请人地址
:
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1
IPC主分类号
:
B05C13/02
IPC分类号
:
B05C5/02
H01L21/683
H01L21/67
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
杨贝贝;臧建明
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-15
授权
授权
共 50 条
[1]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
上野幸一
论文数:
0
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0
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0
上野幸一
.
中国专利
:CN113262951A
,2021-08-17
[2]
基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序
[P].
火口友美
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
火口友美
;
鳅场真树
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
鳅场真树
;
胡铃达
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
胡铃达
;
岩川裕
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
岩川裕
;
藤原直树
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
藤原直树
;
吉原直彦
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
吉原直彦
.
日本专利
:CN119542182A
,2025-02-28
[3]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
川岸棱也
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
川岸棱也
;
高村幸宏
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
高村幸宏
;
大宅宗明
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
大宅宗明
.
日本专利
:CN120341134A
,2025-07-18
[4]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
安陪裕滋
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安陪裕滋
.
中国专利
:CN111715473B
,2020-09-29
[5]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
尾辻正幸
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尾辻正幸
.
中国专利
:CN107437516A
,2017-12-05
[6]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
斋藤孝行
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斋藤孝行
;
铃木作
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铃木作
;
山田薰
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山田薰
;
伊藤贤也
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伊藤贤也
;
龟泽正之
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龟泽正之
;
山口健二
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山口健二
.
中国专利
:CN1879199A
,2006-12-13
[7]
基板处理方法及基板处理装置
[P].
犹原英司
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
犹原英司
;
冲田有史
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
冲田有史
;
角间央章
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
角间央章
;
増井达哉
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
増井达哉
.
日本专利
:CN119517801A
,2025-02-25
[8]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
川岸棱也
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
川岸棱也
;
高村幸宏
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
高村幸宏
;
大宅宗明
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
大宅宗明
.
日本专利
:CN120341133A
,2025-07-18
[9]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
西冈贤太郎
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西冈贤太郎
.
中国专利
:CN1757439A
,2006-04-12
[10]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
大泽瑞树
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大泽瑞树
;
戎居博志
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戎居博志
.
中国专利
:CN109216229B
,2019-01-15
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