一种离子束抛光路径的规划方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810030958.X

申请日：

2008-03-31

公开(公告)号：

CN101274822B

公开(公告)日：

2008-10-01

发明(设计)人：

戴一帆李圣怡周林解旭辉彭小强吴宇列王建敏

申请人：

申请人地址：

410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国人民解放军国防科学技术大学机电工程与自动化学院机电工程系

IPC主分类号：

C03C2300

IPC分类号：

G05B1919

代理机构：

湖南兆弘专利事务所 43008

代理人：

赵洪

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-10-01	公开	公开
2010-08-11	授权	授权
2008-11-26	实质审查的生效	实质审查的生效
2016-05-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101661352817 IPC(主分类):C03C 23/00 专利号:ZL200810030958X 申请日:20080331 授权公告日:20100811 终止日期:20150331

共 50 条

[1]

离子束抛光设备及应用其的离子束抛光方法 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN104907894A ,2015-09-16

[2]

离子束抛光设备 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN204771859U ,2015-11-18

[3]

离子束抛光工艺中面形收敛精度的控制方法 [P].

李圣怡 ;

戴一帆 ;

解旭辉 ;

周林 ;

郑子文 ;

王建敏 ;

尹自强 .

中国专利 :CN101261511A ,2008-09-10

[4]

离子束抛光加工结果的预测预报方法 [P].

解旭辉 ;

李圣怡 ;

戴一帆 ;

周林 ;

焦长君 ;

陈善勇 ;

王贵林 .

中国专利 :CN100550006C ,2008-09-03

[5]

一种非球面离子束抛光方法 [P].

陈智利 ;

刘卫国 ;

惠迎雪 ;

周顺 ;

张进 ;

陈鹏 .

中国专利 :CN114273986A ,2022-04-05

[6]

一种离子束抛光装置 [P].

黄贺 ;

张瀛怀 ;

房圣桃 ;

李鑫 ;

梁棋翔 ;

张健 ;

叶铭堃 .

中国专利 :CN119238225A ,2025-01-03

[7]

一种离子束抛光装备 [P].

张松林 .

中国专利 :CN222767939U ,2025-04-18

[8]

一种离子束抛光设备 [P].

常洪兴 ;

徐胜 .

中国专利 :CN210549947U ,2020-05-19

[9]

条形束斑离子束抛光的面形重构及扫描路径规划方法 [P].

吴丽翔 ;

魏朝阳 ;

邵建达 ;

胡晨 .

中国专利 :CN106649916B ,2017-05-10

[10]

离子束抛光工艺修形能力的评价方法 [P].

李圣怡 ;

戴一帆 ;

解旭辉 ;

周林 ;

郑子文 ;

陈善勇 ;

彭小强 .

中国专利 :CN101250029B ,2008-08-27

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