形成半导体元件的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200610103930.5
申请日
2006-07-28
公开(公告)号
CN1992206A
公开(公告)日
2007-07-04
发明(设计)人
陈宏玮 钟堂轩 吕升达 张长昀 吴炳坤 王昭雄 杨富量
申请人
申请人地址
台湾省新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
IPC主分类号
H01L21822
IPC分类号
H01L218234
代理机构
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人
寿宁;张华辉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件的形成方法 [P]. 
曹学文 ;
许光源 ;
詹博文 .
中国专利 :CN102129978A ,2011-07-20
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半导体元件及其形成方法 [P]. 
黄振浩 ;
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许隨赢 ;
李玥瑩 ;
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赖佳平 .
中国专利 :CN114530467A ,2022-05-24
[3]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
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半导体元件及其形成方法 [P]. 
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[5]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
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[6]
半导体元件及形成半导体元件的方法 [P]. 
王志豪 ;
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半导体元件及形成半导体元件的方法 [P]. 
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制造半导体元件的方法与半导体元件 [P]. 
刘重希 ;
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形成半导体元件及其栅极结构的方法 [P]. 
叶明熙 ;
林舜武 ;
陈启群 ;
陈嘉仁 ;
陈薏新 ;
陈建豪 ;
赵元舜 ;
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[10]
形成半导体元件的方法 [P]. 
赖冠颖 ;
谢昕佑 ;
王长茂 ;
邱崇益 .
中国专利 :CN115332248A ,2022-11-11