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半导体元件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110118119.9
申请日
:
2021-01-28
公开(公告)号
:
CN113257741A
公开(公告)日
:
2021-08-13
发明(设计)人
:
钟汉邠
刘季康
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L218238
IPC分类号
:
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
黄艳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-13
公开
公开
2021-08-31
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/8238 申请日:20210128
共 50 条
[1]
半导体元件及其形成方法
[P].
黄振浩
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄振浩
;
卢皓彦
论文数:
0
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卢皓彦
;
许隨赢
论文数:
0
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许隨赢
;
李玥瑩
论文数:
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李玥瑩
;
吴建瑩
论文数:
0
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吴建瑩
;
赖佳平
论文数:
0
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0
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0
赖佳平
.
中国专利
:CN114530467A
,2022-05-24
[2]
半导体元件及其形成方法
[P].
张任远
论文数:
0
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0
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0
张任远
;
蔡子中
论文数:
0
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0
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0
蔡子中
.
中国专利
:CN115527921A
,2022-12-27
[3]
半导体元件及其形成方法
[P].
翁桐敏
论文数:
0
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0
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0
翁桐敏
;
吴宗翰
论文数:
0
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0
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0
吴宗翰
.
中国专利
:CN109427682A
,2019-03-05
[4]
半导体元件的形成方法
[P].
曹学文
论文数:
0
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0
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曹学文
;
许光源
论文数:
0
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许光源
;
詹博文
论文数:
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詹博文
.
中国专利
:CN102129978A
,2011-07-20
[5]
半导体元件及其形成方法
[P].
杨锦煌
论文数:
0
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杨锦煌
;
廖均恒
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廖均恒
;
郑新立
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郑新立
;
韩良恺
论文数:
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韩良恺
.
中国专利
:CN102593054A
,2012-07-18
[6]
半导体元件及其形成方法
[P].
林时彦
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林时彦
;
蔡柏政
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蔡柏政
;
张煜伟
论文数:
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0
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0
张煜伟
.
中国专利
:CN115528098A
,2022-12-27
[7]
半导体元件及其形成方法
[P].
颜天才
论文数:
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颜天才
;
萧竹芸
论文数:
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萧竹芸
;
许家福
论文数:
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0
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许家福
.
中国专利
:CN106033745A
,2016-10-19
[8]
半导体元件及其形成方法
[P].
吴仓聚
论文数:
0
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吴仓聚
;
章勋明
论文数:
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0
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章勋明
.
中国专利
:CN1959978A
,2007-05-09
[9]
半导体元件及其形成方法
[P].
周信宏
论文数:
0
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周信宏
;
蔡高财
论文数:
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引用数:
0
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0
蔡高财
.
中国专利
:CN115696923A
,2023-02-03
[10]
半导体元件及其形成方法
[P].
姜序
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
姜序
.
中国专利
:CN121174541A
,2025-12-19
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