半导体元件及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110118119.9
申请日
2021-01-28
公开(公告)号
CN113257741A
公开(公告)日
2021-08-13
发明(设计)人
钟汉邠 刘季康
申请人
申请人地址
中国台湾新竹市
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
黄艳
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
黄振浩 ;
卢皓彦 ;
许隨赢 ;
李玥瑩 ;
吴建瑩 ;
赖佳平 .
中国专利 :CN114530467A ,2022-05-24
[2]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
张任远 ;
蔡子中 .
中国专利 :CN115527921A ,2022-12-27
[3]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
翁桐敏 ;
吴宗翰 .
中国专利 :CN109427682A ,2019-03-05
[4]
半导体元件的形成方法 [P]. 
曹学文 ;
许光源 ;
詹博文 .
中国专利 :CN102129978A ,2011-07-20
[5]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
杨锦煌 ;
廖均恒 ;
郑新立 ;
韩良恺 .
中国专利 :CN102593054A ,2012-07-18
[6]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
林时彦 ;
蔡柏政 ;
张煜伟 .
中国专利 :CN115528098A ,2022-12-27
[7]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
颜天才 ;
萧竹芸 ;
许家福 .
中国专利 :CN106033745A ,2016-10-19
[8]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
吴仓聚 ;
章勋明 .
中国专利 :CN1959978A ,2007-05-09
[9]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
周信宏 ;
蔡高财 .
中国专利 :CN115696923A ,2023-02-03
[10]
半导体元件及其形成方法 [P]. 
姜序 .
中国专利 :CN121174541A ,2025-12-19