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光刻胶涂布装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201821257336.6
申请日
:
2018-08-06
公开(公告)号
:
CN208432846U
公开(公告)日
:
2019-01-25
发明(设计)人
:
张海陆
颜廷彪
叶日铨
黄志凯
申请人
:
申请人地址
:
223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
IPC主分类号
:
G03F716
IPC分类号
:
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
余明伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-25
授权
授权
共 50 条
[21]
一种光刻胶涂布头及涂布装置
[P].
李伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李伟
;
王建峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王建峰
;
刘富军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘富军
;
魏崇喜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
魏崇喜
.
中国专利
:CN202881098U
,2013-04-17
[22]
一种光刻胶供给装置和光刻胶涂布系统
[P].
杜景龙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杜景龙
;
杨辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨辉
;
承小辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
承小辉
;
路朝华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
路朝华
.
中国专利
:CN205334053U
,2016-06-22
[23]
光刻胶涂布系统
[P].
黄良志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄良志
;
周瑶亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周瑶亮
.
中国专利
:CN101122746A
,2008-02-13
[24]
光刻胶涂布方法
[P].
林锺吉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
林锺吉
;
金在植
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
金在植
;
张成根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
张成根
;
金成昱
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
金成昱
;
梁贤石
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
梁贤石
;
贺晓彬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
贺晓彬
;
刘强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
刘强
;
杨涛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
杨涛
;
李俊峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
李俊峰
;
王文武
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
王文武
.
中国专利
:CN114967346B
,2025-05-16
[25]
光刻胶涂布方法
[P].
王耀增
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王耀增
;
罗丁硕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
罗丁硕
;
杨然富
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨然富
;
赵弘文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赵弘文
;
蔡孟霖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
蔡孟霖
.
中国专利
:CN108490739A
,2018-09-04
[26]
光刻胶涂布系统
[P].
林锺吉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林锺吉
;
金在植
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金在植
;
张成根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张成根
;
丁明正
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
丁明正
;
贺晓彬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
贺晓彬
;
刘强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘强
;
王桂磊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王桂磊
;
周娜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周娜
.
中国专利
:CN114859658A
,2022-08-05
[27]
光刻胶涂布方法
[P].
周顺杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新微技术研发中心有限公司
上海新微技术研发中心有限公司
周顺杰
;
田亮亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新微技术研发中心有限公司
上海新微技术研发中心有限公司
田亮亮
;
龚燕飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新微技术研发中心有限公司
上海新微技术研发中心有限公司
龚燕飞
.
中国专利
:CN119126494A
,2024-12-13
[28]
扫描式光刻胶涂布系统
[P].
吴明锋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吴明锋
.
中国专利
:CN208705657U
,2019-04-05
[29]
一种光刻胶涂布装置
[P].
宫奎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宫奎
;
段献学
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
段献学
;
刘天真
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘天真
;
陈程
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈程
.
中国专利
:CN106547169A
,2017-03-29
[30]
边缘涂布装置和光刻胶涂布设备
[P].
鲁泽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
鲁泽
;
李俊杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李俊杰
;
黄志凯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄志凯
;
叶日铨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
叶日铨
.
中国专利
:CN208953888U
,2019-06-07
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