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扫描式光刻胶涂布系统
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201821480547.6
申请日
:
2018-09-11
公开(公告)号
:
CN208705657U
公开(公告)日
:
2019-04-05
发明(设计)人
:
吴明锋
申请人
:
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630
IPC主分类号
:
G03F716
IPC分类号
:
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
余明伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-04-05
授权
授权
共 50 条
[1]
扫描式光刻胶涂布系统及方法
[P].
吴明锋
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吴明锋
.
中国专利
:CN110888302A
,2020-03-17
[2]
光刻胶涂布系统
[P].
黄良志
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黄良志
;
周瑶亮
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周瑶亮
.
中国专利
:CN101122746A
,2008-02-13
[3]
光刻胶涂布系统
[P].
林锺吉
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林锺吉
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金在植
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金在植
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张成根
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张成根
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丁明正
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丁明正
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贺晓彬
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贺晓彬
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刘强
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刘强
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王桂磊
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王桂磊
;
周娜
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周娜
.
中国专利
:CN114859658A
,2022-08-05
[4]
光刻胶涂布装置
[P].
李波
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李波
;
刘小虎
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刘小虎
.
中国专利
:CN112558418A
,2021-03-26
[5]
光刻胶涂布装置
[P].
张海陆
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张海陆
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颜廷彪
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颜廷彪
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叶日铨
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叶日铨
;
黄志凯
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黄志凯
.
中国专利
:CN208432846U
,2019-01-25
[6]
光刻胶涂布吸头及光刻胶涂布装置
[P].
汪良恩
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汪良恩
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汪曦凌
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汪曦凌
;
伍银辉
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伍银辉
.
中国专利
:CN204347432U
,2015-05-20
[7]
一种光刻胶供给装置和光刻胶涂布系统
[P].
杜景龙
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杜景龙
;
杨辉
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杨辉
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承小辉
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承小辉
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路朝华
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路朝华
.
中国专利
:CN205334053U
,2016-06-22
[8]
光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法
[P].
金在植
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金在植
;
张成根
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张成根
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林锺吉
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林锺吉
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贺晓彬
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贺晓彬
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刘金彪
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刘金彪
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杨涛
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杨涛
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李俊峰
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李俊峰
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王文武
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王文武
.
中国专利
:CN111897187A
,2020-11-06
[9]
光刻胶涂布系统及涂布方法
[P].
易伟华
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易伟华
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张迅
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张迅
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郑芳平
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郑芳平
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徐彬彬
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徐彬彬
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洪华俊
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洪华俊
.
中国专利
:CN110787967A
,2020-02-14
[10]
光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法
[P].
金在植
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机构:
中国科学院微电子研究所
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金在植
;
张成根
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中国科学院微电子研究所
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张成根
;
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;
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刘金彪
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杨涛
;
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中国科学院微电子研究所
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李俊峰
;
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
王文武
.
中国专利
:CN111897187B
,2024-04-16
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