光刻胶涂布系统及涂布方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911098219.9

申请日：

2019-11-12

公开(公告)号：

CN110787967A

公开(公告)日：

2020-02-14

发明(设计)人：

易伟华张迅郑芳平徐彬彬洪华俊

申请人：

申请人地址：

338004 江西省新余市高新技术产业开发区西城大道沃格工业园

IPC主分类号：

B05C1110

IPC分类号：

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

刘欣

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05C 11/10 申请日:20191112
2020-02-14	公开	公开
2022-01-28	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B05C 11/10 申请公布日:20200214

共 50 条

[1]

光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

刘金彪 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111897187A ,2020-11-06

[2]

光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

刘金彪 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111897187B ,2024-04-16

[3]

光刻胶回收装置，涂布系统及涂布方法 [P].

李晓光 ;

袁剑峰 ;

吴洪江 ;

姜晶晶 ;

肖宇 ;

黎敏 .

中国专利 :CN103910493A ,2014-07-09

[4]

光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

崔栽荣 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

王桂磊 ;

白国斌 .

中国专利 :CN114690564A ,2022-07-01

[5]

光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

刘新 ;

李宗怿 ;

潘波 ;

朱贞颖 ;

江斐 ;

谢程阳 ;

王天玉 ;

张诺琦 .

中国专利 :CN121165397A ,2025-12-19

[6]

光刻胶涂布系统 [P].

黄良志 ;

周瑶亮 .

中国专利 :CN101122746A ,2008-02-13

[7]

光刻胶涂布装置及涂布方法 [P].

王进钦 ;

田龙 ;

方震宇 .

中国专利 :CN119087746A ,2024-12-06

[8]

光刻胶涂布系统及方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN111570150A ,2020-08-25

[9]

光刻胶涂布系统 [P].

林锺吉 ;

金在植 ;

张成根 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

王桂磊 ;

周娜 .

中国专利 :CN114859658A ,2022-08-05

[10]

光刻胶涂布方法 [P].

林锺吉 ;

金在植 ;

张成根 ;

金成昱 ;

梁贤石 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114967346B ,2025-05-16

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