托架、半导体腔室及半导体工艺设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202111138893.2
申请日
2021-09-27
公开(公告)号
CN113871337A
公开(公告)日
2021-12-31
发明(设计)人
赵磊
申请人
申请人地址
100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
H01L2168
IPC分类号
H01L21687 H01L2167
代理机构
北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315
代理人
施敬勃
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体腔室及半导体工艺设备 [P]. 
王磊 .
中国专利 :CN113445017B ,2021-09-28
[2]
支撑装置、半导体腔室及半导体工艺设备 [P]. 
郑金果 ;
陈石 ;
郭浩 .
中国专利 :CN222619734U ,2025-03-14
[3]
一种半导体腔室及半导体工艺设备 [P]. 
汝文弟 ;
陈婉祯 .
中国专利 :CN221805451U ,2024-10-01
[4]
半导体腔室的冷却装置及半导体工艺设备 [P]. 
余峰 .
中国专利 :CN114318522A ,2022-04-12
[5]
托架及半导体工艺设备 [P]. 
李刚 ;
李苗苗 ;
马钰虎 .
中国专利 :CN222734962U ,2025-04-08
[6]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P]. 
戎艳天 ;
张宝辉 .
中国专利 :CN111640641A ,2020-09-08
[7]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P]. 
郭春 .
中国专利 :CN119890115A ,2025-04-25
[8]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P]. 
黄其伟 .
中国专利 :CN112992743B ,2021-06-18
[9]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P]. 
耿宏伟 ;
王磊 ;
胡烁鹏 ;
李庆明 .
中国专利 :CN119307868A ,2025-01-14
[10]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P]. 
迟文凯 ;
王歆銘 ;
任晓艳 ;
郭浩 ;
王昊 ;
李浩东 .
中国专利 :CN119433506A ,2025-02-14