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空穴注入传输层用材料、空穴注入传输层形成用油墨、器件以及它们的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201280048222.X
申请日
:
2012-09-25
公开(公告)号
:
CN103843165B
公开(公告)日
:
2014-06-04
发明(设计)人
:
乙木荣志
下河原匡哉
冈田政人
武田利彦
申请人
:
申请人地址
:
日本国东京都
IPC主分类号
:
H01L5154
IPC分类号
:
H01L5130
C09D1100
C09K1106
H01L5156
H01L5140
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
王彦慧
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-06-04
公开
公开
2014-08-13
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101584376037 IPC(主分类):H01L 51/54 专利申请号:201280048222X 申请日:20120925
2015-06-24
授权
授权
共 50 条
[1]
空穴注入传输层用器件材料、空穴注入传输层形成用油墨、具有空穴注入传输层的器件及其制造方法
[P].
上野滋弘
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上野滋弘
;
冈田政人
论文数:
0
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冈田政人
.
中国专利
:CN102473849A
,2012-05-23
[2]
具有空穴注入传输层的器件及其制造方法以及空穴注入传输层形成用油墨
[P].
上野滋弘
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上野滋弘
;
冈田政人
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冈田政人
;
薙野晋介
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薙野晋介
;
桥本庆介
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桥本庆介
.
中国专利
:CN102598342B
,2012-07-18
[3]
空穴注入层以及空穴传输层
[P].
舟生重昭
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舟生重昭
;
石塚健一
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石塚健一
;
星阳介
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星阳介
.
中国专利
:CN105514272A
,2016-04-20
[4]
具有空穴注入传输层的器件及其制造方法、以及用于形成空穴注入传输层的墨液
[P].
上野滋弘
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上野滋弘
;
冈田政人
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冈田政人
;
桥本庆介
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桥本庆介
.
中国专利
:CN102017216A
,2011-04-13
[5]
具有空穴注入传输层的器件及其制造方法、以及用于形成空穴注入传输层的墨液
[P].
上野滋弘
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上野滋弘
;
桥本庆介
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桥本庆介
;
冈田政人
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冈田政人
;
武诚司
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武诚司
;
田口洋介
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田口洋介
;
加纳正隆
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加纳正隆
;
藤本慎也
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藤本慎也
.
中国专利
:CN102017217B
,2011-04-13
[6]
空穴传输层用材料、空穴注入层用材料以及有机化合物
[P].
渡部刚吉
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渡部刚吉
;
久保田朋广
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久保田朋广
;
植田蓝莉
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植田蓝莉
;
濑尾哲史
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濑尾哲史
;
大泽信晴
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大泽信晴
;
久保田优子
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久保田优子
.
中国专利
:CN112186112A
,2021-01-05
[7]
用于形成空穴注入传输层的墨液
[P].
上野滋弘
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上野滋弘
;
冈田政人
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冈田政人
;
桥本庆介
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0
桥本庆介
.
中国专利
:CN103214882B
,2013-07-24
[8]
含过渡金属化合物的纳米粒子及其制造方法、空穴注入传输层用油墨以及具有空穴注入传输层的器件及其制造方法
[P].
上野滋弘
论文数:
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上野滋弘
;
田口洋介
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田口洋介
;
下河原匡哉
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下河原匡哉
.
中国专利
:CN102484210B
,2012-05-30
[9]
空穴传输层用材料、使用该空穴传输层用材料的光电转换元件及化合物
[P].
林祐一朗
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机构:
保土谷化学工业株式会社
保土谷化学工业株式会社
林祐一朗
;
高桥秀聪
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机构:
保土谷化学工业株式会社
保土谷化学工业株式会社
高桥秀聪
;
佐藤洋
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机构:
保土谷化学工业株式会社
保土谷化学工业株式会社
佐藤洋
;
伊东俊昭
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机构:
保土谷化学工业株式会社
保土谷化学工业株式会社
伊东俊昭
.
日本专利
:CN120770219A
,2025-10-10
[10]
空穴注入材料、包含其的空穴注入层和OLED显示面板
[P].
俞云海
论文数:
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俞云海
;
杨红领
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杨红领
;
鄢亮亮
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鄢亮亮
.
中国专利
:CN110627682B
,2019-12-31
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