干法蚀刻设备及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710556671.X

申请日：

2017-07-10

公开(公告)号：

CN107301967A

公开(公告)日：

2017-10-27

发明(设计)人：

方亮肖文欢

申请人：

申请人地址：

430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280

代理人：

李庆波

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 21/67 申请公布日:20171027
2017-10-27	公开	公开
2017-11-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170710

共 50 条

[1]

干法蚀刻气体以及干法蚀刻方法 [P].

中村阳介 ;

藤原昌生 ;

大森启之 ;

八尾章史 .

中国专利 :CN107533969B ,2018-01-02

[2]

干法蚀刻方法以及硅片蚀刻方法 [P].

杨柏 .

中国专利 :CN101562122B ,2009-10-21

[3]

干法蚀刻方法 [P].

张海洋 ;

孙武 ;

符雅丽 .

中国专利 :CN101937832A ,2011-01-05

[4]

干法蚀刻方法 [P].

王学生 ;

张潇 ;

班丁丁 .

中国专利 :CN119764169A ,2025-04-04

[5]

蚀刻设备及蚀刻方法 [P].

叶江波 .

中国专利 :CN105870008A ,2016-08-17

[6]

利用化学干法蚀刻设备进行微蚀刻的方法 [P].

孔秋东 ;

简中祥 ;

齐龙茵 .

中国专利 :CN102496561A ,2012-06-13

[7]

蚀刻方法及蚀刻处理设备 [P].

深沢正永 .

中国专利 :CN111033698A ,2020-04-17

[8]

干法蚀刻装置 [P].

胡军 ;

赵祥辉 .

中国专利 :CN215496615U ,2022-01-11

[9]

湿蚀刻设备及湿蚀刻方法 [P].

高胜洲 ;

黄荣龙 ;

欧振宪 ;

邱立峰 .

中国专利 :CN1797221B ,2006-07-05

[10]

湿法蚀刻设备及湿法蚀刻方法 [P].

吴祥 ;

李卫民 .

中国专利 :CN115148643B ,2025-05-13

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