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批次式湿法蚀刻清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920404333.9
申请日
:
2019-03-28
公开(公告)号
:
CN209880549U
公开(公告)日
:
2019-12-31
发明(设计)人
:
蔡汉平
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市北区南寮里4邻中清一路22之7号1楼
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218
代理人
:
翟羽
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-12-31
授权
授权
共 50 条
[1]
批次式湿法蚀刻清洗装置及批次式湿法蚀刻清洗方法
[P].
蔡汉平
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
政汉电子科技有限公司
政汉电子科技有限公司
蔡汉平
.
中国专利
:CN110544649B
,2024-06-07
[2]
批次式湿法蚀刻清洗装置及批次式湿法蚀刻清洗方法
[P].
蔡汉平
论文数:
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蔡汉平
.
中国专利
:CN110544649A
,2019-12-06
[3]
一种湿法蚀刻晶圆清洗装置
[P].
王静强
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机构:
昆山基侑电子科技有限公司
昆山基侑电子科技有限公司
王静强
;
胡兴华
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机构:
昆山基侑电子科技有限公司
昆山基侑电子科技有限公司
胡兴华
;
徐福兴
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机构:
昆山基侑电子科技有限公司
昆山基侑电子科技有限公司
徐福兴
.
中国专利
:CN222953035U
,2025-06-06
[4]
一种湿法蚀刻机台清洗装置
[P].
兰升友
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兰升友
;
李瑶
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李瑶
;
熊超超
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熊超超
;
肖清凯
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肖清凯
;
杨富可
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杨富可
.
中国专利
:CN213752633U
,2021-07-20
[5]
一种湿法蚀刻机的水刀清洗装置及方法
[P].
徐国军
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徐国军
;
毛地雅
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毛地雅
;
刘俊林
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刘俊林
;
陈思
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陈思
.
中国专利
:CN107597687A
,2018-01-19
[6]
湿法清洗装置
[P].
王民
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王民
.
中国专利
:CN202411031U
,2012-09-05
[7]
湿法清洗设备
[P].
吴镐硕
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吴镐硕
;
朴灵绪
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朴灵绪
.
中国专利
:CN214099596U
,2021-08-31
[8]
一种湿法蚀刻装置
[P].
丁敬秀
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丁敬秀
;
陈福成
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陈福成
;
金滕滕
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金滕滕
.
中国专利
:CN203733767U
,2014-07-23
[9]
一种湿法蚀刻装置及湿法蚀刻方法
[P].
唐恝
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
唐恝
;
范凯平
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
范凯平
;
邓梓阳
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
邓梓阳
;
姚晓薇
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
姚晓薇
;
卢淑欣
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
卢淑欣
;
于倩倩
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机构:
佛山市国星半导体技术有限公司
佛山市国星半导体技术有限公司
于倩倩
.
中国专利
:CN116387185B
,2025-12-16
[10]
湿法蚀刻装置
[P].
段海东
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段海东
;
赖力彰
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赖力彰
;
肖方
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肖方
;
张正荣
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张正荣
.
中国专利
:CN101246807A
,2008-08-20
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