基于干法刻蚀和湿法腐蚀工艺制备硅纳米结构的方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610040806.9
申请日
2006-07-25
公开(公告)号
CN100591614C
公开(公告)日
2007-09-26
发明(设计)人
施毅 陈杰智 濮林 郑有炓 龙世兵 刘明
申请人
申请人地址
210093江苏省南京市汉口路22号
IPC主分类号
B82B300
IPC分类号
代理机构
南京天翼专利代理有限责任公司
代理人
汤志武;王鹏翔
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
硅的干法刻蚀方法 [P]. 
张振兴 ;
奚裴 .
中国专利 :CN102347232A ,2012-02-08
[2]
干法刻蚀工艺方法 [P]. 
赵博超 .
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[3]
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李其凡 ;
史晓华 ;
徐明金 .
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[4]
干法刻蚀工艺的优化方法 [P]. 
请求不公布姓名 ;
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中国专利 :CN118866675A ,2024-10-29
[5]
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中国专利 :CN113394091A ,2021-09-14
[6]
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[9]
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[10]
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张建宝 ;
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