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干法刻蚀工艺的优化方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411339262.0
申请日：
2024-09-25
公开(公告)号：
CN118866675A
公开(公告)日：
2024-10-29
发明(设计)人：
请求不公布姓名
朱忻
申请人：
苏州矩阵光电有限公司
申请人地址：
215614 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰大道14号（凤凰科创园D栋、E栋）
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H01L21/66
代理机构：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250
代理人：
房祥玉
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
江苏省
苏州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-08-05 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):H01L 21/3065申请公布日:20241029 |
| 2024-11-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20240925 |
| 2024-10-29 | 公开 | 公开 |