一种大面积MoS2薄膜生长方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510991088.2
申请日
2015-12-24
公开(公告)号
CN105506578A
公开(公告)日
2016-04-20
发明(设计)人
冯双龙 聂长斌 魏兴战 陆文强 史浩飞 杜春雷
申请人
申请人地址
400714 重庆市北碚区方正大道266号
IPC主分类号
C23C1630
IPC分类号
代理机构
北京同恒源知识产权代理有限公司 11275
代理人
王贵君
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
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[2]
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[3]
一种大面积均匀单层石墨烯薄膜的制备方法 [P]. 
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姚文乾 ;
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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孟祥敏 ;
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夏静 ;
黄奔 .
中国专利 :CN104178815A ,2014-12-03
[9]
一种适于各种衬底形状的钙钛矿薄膜大面积制备方法 [P]. 
罗派峰 ;
刘兆范 ;
夏伟 ;
周圣稳 .
中国专利 :CN105655447B ,2016-06-08
[10]
大面积ABX3型钙钛矿晶体薄膜生长方法及装置 [P]. 
匡代彬 ;
饶华商 ;
李文广 ;
陈白雪 ;
苏成勇 .
中国专利 :CN105951168A ,2016-09-21