基板处理方法和基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010500322.8

申请日：

2020-06-04

公开(公告)号：

CN112071752A

公开(公告)日：

2020-12-11

发明(设计)人：

高桥毅冈田充弘藤井康布重裕川崎真司桑田拓岳高木俊夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21285

IPC分类号：

C23C16455 C23C1652

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-11	公开	公开
2020-12-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/285 申请日:20200604

共 50 条

[1]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

高桥毅 ;

冈田充弘 ;

藤井康 ;

布重裕 ;

川崎真司 ;

桑田拓岳 ;

高木俊夫 .

日本专利 :CN112071752B ,2024-07-19

[2]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

高木俊夫 ;

金子裕是 ;

岩田辉夫 ;

竹山环 ;

柿本明修 .

中国专利 :CN100514576C ,2008-03-05

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

福井祥吾 ;

御所真高 ;

冈村聪 ;

浦智仁 .

中国专利 :CN114914172A ,2022-08-16

[4]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

内藤启 ;

三好秀典 ;

土场重树 .

中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

饱本正巳 ;

北野淳一 ;

田中幸二 ;

大塚贵久 ;

南田纯也 .

中国专利 :CN114551278A ,2022-05-27

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

黄喆周 .

中国专利 :CN112912997A ,2021-06-04

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

川渊洋介 ;

宫本尚弥 .

日本专利 :CN119731769A ,2025-03-28

[8]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

井上纱绫 ;

田中晓 ;

下村伸一郎 ;

井原亨 ;

枇杷聪 .

中国专利 :CN115692172A ,2023-02-03

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

加藤寿 .

日本专利 :CN117650077A ,2024-03-05

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

户岛孝之 ;

岩下光秋 ;

上川裕二 ;

中岛干雄 .

中国专利 :CN102479671A ,2012-05-30

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