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基板处理装置和基板处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380060795.2
申请日：
2023-08-18
公开(公告)号：
CN119731769A
公开(公告)日：
2025-03-28
发明(设计)人：
川渊洋介 宫本尚弥
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H01L21/304
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李靖
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-06-17 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20230818
2025-03-28 公开 公开
共 50 条
[1]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
木镰英司 ;
竹内千明 .
日本专利 :CN113745127B ,2025-07-11
[2]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
木镰英司 ;
竹内千明 .
中国专利 :CN113745127A ,2021-12-03
[3]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
福井祥吾 ;
御所真高 ;
冈村聪 ;
浦智仁 .
中国专利 :CN114914172A ,2022-08-16
[4]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
内藤启 ;
三好秀典 ;
土场重树 .
中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08
[5]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
饱本正巳 ;
北野淳一 ;
田中幸二 ;
大塚贵久 ;
南田纯也 .
中国专利 :CN114551278A ,2022-05-27
[6]
基板处理方法和基板处理装置 [P]. 
井上纱绫 ;
田中晓 ;
下村伸一郎 ;
井原亨 ;
枇杷聪 .
中国专利 :CN115692172A ,2023-02-03
[7]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
加藤寿 .
日本专利 :CN117650077A ,2024-03-05
[8]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
户岛孝之 ;
岩下光秋 ;
上川裕二 ;
中岛干雄 .
中国专利 :CN102479671A ,2012-05-30
[9]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
江头浩司 ;
山下刚秀 ;
本田儀幸 ;
吉田祐希 ;
川渕洋介 .
中国专利 :CN108028193B ,2018-05-11
[10]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
井原亨 ;
五师源太郎 ;
山下刚秀 .
中国专利 :CN112838028A ,2021-05-25
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