化学机械抛光组合物以及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010409841.3

申请日：

2020-05-14

公开(公告)号：

CN111944429B

公开(公告)日：

2020-11-17

发明(设计)人：

N·K·彭塔 K·E·特泰 M·范汉尼赫姆

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;钱文宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20200514
2020-11-17	公开	公开
2021-11-16	授权	授权

共 50 条

[1]

用于边缘抛光的化学机械抛光组合物 [P].

洪丹燕 ;

田露 ;

NP·叶日博纳 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN116254059B ,2024-01-23

[2]

化学机械抛光组合物和方法 [P].

C·希 ;

K·泰蒂 ;

M·R·范哈纳姆 ;

M·G·伊瓦纳加姆 ;

L·张 ;

D·W·莫斯利 .

美国专利 :CN115232563B ,2024-04-26

[3]

化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法 [P].

北村启 ;

增田刚 ;

松村义之 ;

并木明久 ;

齐藤健 .

中国专利 :CN114258421A ,2022-03-29

[4]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[5]

化学机械抛光组合物及其相关方法 [P].

刘振东 .

中国专利 :CN101736344B ,2010-06-16

[6]

化学机械抛光组合物及抛光方法 [P].

刘子龙 ;

冉运 ;

黄维 ;

肖桂林 .

中国专利 :CN118562394A ,2024-08-30

[7]

化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法 [P].

冈本隆浩 ;

宫内裕之 ;

河原弘二 ;

志保浩司 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN1654169A ,2005-08-17

[8]

化学机械抛光组合物 [P].

C·达施莱茵 ;

M·西伯特 ;

兰永清 ;

M·劳特尔 ;

S·A·奥斯曼易卜拉欣 ;

R·戈扎里安 ;

魏得育 ;

H·O·格文茨 ;

J·普罗尔斯 ;

L·勒尼森 .

中国专利 :CN111356747A ,2020-06-30

[9]

酸性化学机械抛光组合物 [P].

路新春 ;

戴媛静 ;

潘国顺 ;

雒建斌 .

中国专利 :CN102585706B ,2012-07-18

[10]

用于钨化学机械抛光的组合物 [P].

S.格伦宾 ;

J.戴萨德 ;

富琳 ;

W.沃德 ;

G.怀特纳 .

中国专利 :CN106104763A ,2016-11-09

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