光掩模坯料及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310150443.4

申请日：

2013-04-26

公开(公告)号：

CN103376642B

公开(公告)日：

2013-10-30

发明(设计)人：

深谷创一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

杨海荣;穆德骏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101607948747 IPC(主分类):G03F 1/32 专利申请号:2013101504434 申请日:20130426
2013-10-30	公开	公开
2016-07-06	授权	授权

共 50 条

[1]

光掩模坯料及光掩模的制造方法 [P].

小岛洋介 ;

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

小板桥龙二 .

中国专利 :CN102656516B ,2012-09-05

[2]

光掩模坯料及光掩模的制造方法 [P].

深谷创一 ;

中川秀夫 ;

笹本纮平 .

中国专利 :CN103424983A ,2013-12-04

[3]

光掩模坯料及光掩模 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

冈崎智 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

高木干夫 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN101052917B ,2007-10-10

[4]

掩模坯料及其制造方法、相移掩模及其制造方法 [P].

余晴 ;

刘树围 ;

潘刘洋 ;

马浩 .

中国专利 :CN119805847A ,2025-04-11

[5]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

坂本好史 ;

小岛洋介 ;

长友达也 .

中国专利 :CN110462510A ,2019-11-15

[6]

光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法 [P].

野泽顺 .

中国专利 :CN101556432A ,2009-10-14

[7]

掩模坯料及其制造方法、二元掩模及其制造方法 [P].

余晴 ;

刘树围 ;

潘刘洋 ;

马浩 .

中国专利 :CN119717386A ,2025-03-28

[8]

光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 ;

中村真实 .

日本专利 :CN109960105B ,2024-06-18

[9]

光掩模坯料及其制造方法、光掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 ;

中村真实 .

中国专利 :CN109254496A ,2019-01-22

[10]

光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 [P].

坪井诚治 ;

中村真实 .

中国专利 :CN109960105A ,2019-07-02

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