一种磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110433434.7

申请日：

2011-12-21

公开(公告)号：

CN103177917A

公开(公告)日：

2013-06-26

发明(设计)人：

杨玉杰耿波

申请人：

申请人地址：

100176 北京市朝阳区北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

H01J2550

IPC分类号：

H01J2302 H01J3734 C23C1435

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

张天舒;陈源

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760557952 IPC(主分类):H01J 25/50 专利号:ZL2011104334347 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100176 北京市朝阳区北京经济技术开发区文昌大道8号变更后:100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
2013-07-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101497327903 IPC(主分类):H01J 25/50 专利申请号:2011104334347 申请日:20111221
2013-06-26	公开	公开
2015-10-21	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备 [P].

杨玉杰 ;

罗建恒 ;

耿波 ;

张同文 .

中国专利 :CN107154330A ,2017-09-12

[2]

磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备 [P].

李杨超 ;

王厚工 ;

耿波 ;

吕峰 .

中国专利 :CN103887130B ,2014-06-25

[3]

磁控管以及磁控管溅射设备 [P].

李宰承 ;

西门瑄 ;

吴永泽 ;

刘云锺 .

中国专利 :CN103882394B ,2014-06-25

[4]

磁控管及磁控溅射设备 [P].

耿波 ;

罗建恒 ;

王磊 ;

杨玉杰 ;

杨帆 ;

陈鑫 ;

寇旭亮 ;

王大男 ;

王厚工 .

中国专利 :CN210420141U ,2020-04-28

[5]

磁控溅射腔室、磁控溅射设备以及磁控管 [P].

杨玉杰 ;

张同文 .

中国专利 :CN108004516B ,2018-05-08

[6]

一种磁控管的设计方法、磁控管和磁控溅射设备 [P].

丁继华 ;

杨玉杰 .

中国专利 :CN120162839A ,2025-06-17

[7]

磁控管溅射方法以及磁控管溅射装置 [P].

太田淳 ;

田口信一郎 ;

杉浦功 ;

谷典明 ;

新井真 ;

清田淳也 .

中国专利 :CN1965101A ,2007-05-16

[8]

磁控管控制方法、磁控管控制装置和磁控溅射设备 [P].

兰玥 ;

侯珏 ;

宿晓敖 ;

赵崇军 .

中国专利 :CN110629173B ,2019-12-31

[9]

磁控管组件及磁控溅射设备 [P].

武学伟 .

中国专利 :CN106032569A ,2016-10-19

[10]

磁控管装置和磁控溅射设备 [P].

陈媛媛 ;

王磊 .

中国专利 :CN121109967A ,2025-12-12

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