集成电路结构和形成集成电路结构的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911015432.9
申请日
2019-10-24
公开(公告)号
CN111106059B
公开(公告)日
2020-05-05
发明(设计)人
江国诚 朱熙甯 程冠伦 王志豪
申请人
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
H01L23528 H01L2348
代理机构
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
章社杲;李伟
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
形成集成电路结构的方法及相关集成电路结构 [P]. 
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[2]
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[3]
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郑明达 ;
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林政仁 ;
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[4]
集成电路结构和形成集成电路结构的方法 [P]. 
陈建源 ;
谢豪泰 .
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
集成电路结构及制造集成电路结构的方法 [P]. 
毕诗伟 ;
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[10]
集成电路器件和形成集成电路结构的方法 [P]. 
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