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无需光刻的氮化镓外延材料制备方法及氮化镓外延材料
被引:0
申请号
:
CN202210096716.0
申请日
:
2022-01-26
公开(公告)号
:
CN114639594A
公开(公告)日
:
2022-06-17
发明(设计)人
:
宁静
武海迪
张进成
郭海滨
张希鹏
王东
马佩军
郝跃
申请人
:
申请人地址
:
710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
C30B2518
C30B2940
代理机构
:
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230
代理人
:
王萌
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-05
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20220126
2022-06-17
公开
公开
共 50 条
[1]
同质外延生长的氮化镓的方法及氮化镓材料
[P].
蔡亚伟
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蔡亚伟
;
张育民
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张育民
;
夏嵩渊
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夏嵩渊
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN114496749A
,2022-05-13
[2]
氮化镓外延层的制备方法及氮化镓外延层
[P].
尹甲运
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尹甲运
;
房玉龙
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房玉龙
;
王波
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王波
;
郭艳敏
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郭艳敏
;
张志荣
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张志荣
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李佳
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李佳
;
芦伟立
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芦伟立
.
中国专利
:CN109119333B
,2019-01-01
[3]
氮化镓薄膜材料外延生长的方法
[P].
闫发旺
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闫发旺
;
张峰
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张峰
;
赵倍吉
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赵倍吉
;
刘春雪
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刘春雪
;
李晨
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李晨
.
中国专利
:CN106876250B
,2017-06-20
[4]
用于外延生长氮化镓晶体的复合衬底及氮化镓外延结构
[P].
王国斌
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王国斌
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN213459739U
,2021-06-15
[5]
氮化镓外延层
[P].
李克涛
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李克涛
;
杜晓沨
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杜晓沨
;
李宁
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李宁
;
张信
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张信
.
中国专利
:CN114447096A
,2022-05-06
[6]
氮化镓外延结构
[P].
徐琳
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徐琳
.
中国专利
:CN216624314U
,2022-05-27
[7]
氮化镓外延片、外延方法及氮化镓基晶体管
[P].
郭艳敏
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郭艳敏
;
房玉龙
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房玉龙
;
尹甲运
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尹甲运
;
张志荣
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张志荣
;
王波
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王波
;
李佳
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李佳
;
芦伟立
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芦伟立
;
高楠
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高楠
;
冯志红
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冯志红
.
中国专利
:CN108155224A
,2018-06-12
[8]
低损耗氮化镓射频材料外延结构及制备方法
[P].
王琦
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王琦
;
梁智文
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梁智文
;
王新强
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王新强
;
张国义
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张国义
.
中国专利
:CN112531015A
,2021-03-19
[9]
氮化镓外延结构制备方法
[P].
石以瑄
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机构:
合肥昆仑芯星半导体有限公司
合肥昆仑芯星半导体有限公司
石以瑄
;
韩露
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机构:
合肥昆仑芯星半导体有限公司
合肥昆仑芯星半导体有限公司
韩露
;
林平澜
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机构:
合肥昆仑芯星半导体有限公司
合肥昆仑芯星半导体有限公司
林平澜
;
石鹏环
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机构:
合肥昆仑芯星半导体有限公司
合肥昆仑芯星半导体有限公司
石鹏环
.
中国专利
:CN119630017A
,2025-03-14
[10]
一种同质外延生长氮化镓的方法、氮化镓材料及应用
[P].
徐俞
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徐俞
;
王建峰
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王建峰
;
徐科
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徐科
.
中国专利
:CN109841497B
,2019-06-04
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