无需光刻的氮化镓外延材料制备方法及氮化镓外延材料

被引:0
申请号
CN202210096716.0
申请日
2022-01-26
公开(公告)号
CN114639594A
公开(公告)日
2022-06-17
发明(设计)人
宁静 武海迪 张进成 郭海滨 张希鹏 王东 马佩军 郝跃
申请人
申请人地址
710000 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
C30B2518 C30B2940
代理机构
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230
代理人
王萌
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
同质外延生长的氮化镓的方法及氮化镓材料 [P]. 
蔡亚伟 ;
张育民 ;
夏嵩渊 ;
王建峰 ;
徐科 .
中国专利 :CN114496749A ,2022-05-13
[2]
氮化镓外延层的制备方法及氮化镓外延层 [P]. 
尹甲运 ;
房玉龙 ;
王波 ;
郭艳敏 ;
张志荣 ;
李佳 ;
芦伟立 .
中国专利 :CN109119333B ,2019-01-01
[3]
氮化镓薄膜材料外延生长的方法 [P]. 
闫发旺 ;
张峰 ;
赵倍吉 ;
刘春雪 ;
李晨 .
中国专利 :CN106876250B ,2017-06-20
[4]
用于外延生长氮化镓晶体的复合衬底及氮化镓外延结构 [P]. 
王国斌 ;
王建峰 ;
徐科 .
中国专利 :CN213459739U ,2021-06-15
[5]
氮化镓外延层 [P]. 
李克涛 ;
杜晓沨 ;
李宁 ;
张信 .
中国专利 :CN114447096A ,2022-05-06
[6]
氮化镓外延结构 [P]. 
徐琳 .
中国专利 :CN216624314U ,2022-05-27
[7]
氮化镓外延片、外延方法及氮化镓基晶体管 [P]. 
郭艳敏 ;
房玉龙 ;
尹甲运 ;
张志荣 ;
王波 ;
李佳 ;
芦伟立 ;
高楠 ;
冯志红 .
中国专利 :CN108155224A ,2018-06-12
[8]
低损耗氮化镓射频材料外延结构及制备方法 [P]. 
王琦 ;
梁智文 ;
王新强 ;
张国义 .
中国专利 :CN112531015A ,2021-03-19
[9]
氮化镓外延结构制备方法 [P]. 
石以瑄 ;
韩露 ;
林平澜 ;
石鹏环 .
中国专利 :CN119630017A ,2025-03-14
[10]
一种同质外延生长氮化镓的方法、氮化镓材料及应用 [P]. 
徐俞 ;
王建峰 ;
徐科 .
中国专利 :CN109841497B ,2019-06-04