抛光装置及将基片从基片保持装置上取下来的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910179046.3

申请日：

2004-10-14

公开(公告)号：

CN101670547A

公开(公告)日：

2010-03-17

发明(设计)人：

鸟居弘臣叶山卓儿八岛哲也

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

杨胜军;蔡洪贵

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-04-28	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001373928 IPC(主分类):B24B 29/02 专利申请号:2009101790463 申请日:20041014
2010-03-17	公开	公开
2012-07-25	授权	授权

共 50 条

[1]

基片保持装置及基片处理设备 [P].

邵留宝 ;

樊昌昊 ;

陈中强 ;

刘鼎新 ;

黄天宇 .

中国专利 :CN120854363A ,2025-10-28

[2]

基片保持装置和基片吸附方法 [P].

带金正 .

中国专利 :CN113508457A ,2021-10-15

[3]

基片的抛光方法及其抛光装置 [P].

久保亨 .

中国专利 :CN1187407A ,1998-07-15

[4]

抛光装置及基片处理装置 [P].

若林聪 ;

户川哲二 ;

小菅隆一 ;

阿藤浩司 ;

外崎宏 .

中国专利 :CN100380599C ,2005-01-12

[5]

基片支撑单元、单一类型基片抛光装置和基片抛光方法 [P].

具教旭 ;

尹沧老 ;

赵重根 ;

崔基勋 ;

崔重奉 ;

孙德铉 ;

具世薰 .

中国专利 :CN101618520B ,2010-01-06

[6]

基片保持装置和电镀设备 [P].

吉冈润一郎 ;

堀江邦明 ;

郭誉纲 ;

森上贤 .

中国专利 :CN100370578C ,2004-11-24

[7]

基片保持装置和电镀设备 [P].

吉冈润一郎 ;

堀江邦明 ;

郭誉纲 ;

森上贤 .

中国专利 :CN101281858A ,2008-10-08

[8]

在基片表面加工期间对可磁化基片进行保持的保持装置 [P].

迪特·穆勒 ;

马克斯·西伯特 ;

克里斯托夫·霍威林 .

中国专利 :CN115053014A ,2022-09-13

[9]

在基片表面加工期间对可磁化的基片进行保持的保持装置 [P].

迪特·穆勒 ;

马克斯·西伯特 ;

克里斯托夫·霍威林 .

:CN115053014B ,2024-06-04

[10]

用放置装置将部件放置在基片保持器上所需位置的方法和适于实施该方法的装置 [P].

H·T·J·A·G·范德桑登 ;

J·M·M·范加斯特 .

中国专利 :CN1656867A ,2005-08-17

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